판매용 중고 LEICA / VISTEC MIS 200 #9137335

LEICA/VISTEC MIS 200 Mask and Wafer Inspection Equipment는 포토 마스크 및 웨이퍼 제품의 결함을 검사, 확인 및 수정하는 데 이상적인 솔루션입니다. 이 시스템은 이미지 처리 (Imaging), 결함 감지 (Defect Detection) 및 수정 (Correction) 의 정확도가 높아 제품 성능과 수율을 향상시킵니다. LEICA MIS 200 장치의 기술은 다중 계층 광학, 최적화 된 수치 이미지 알고리즘 및 기본 물리학의 독특한 조합입니다. 이 기계는 스루 렌즈 광학 (through-the-lens optics) 과 고급 광산란 (advanced light scattering) 기술을 활용하여 결함 사이트의 고해상도 이미지를 생성하여 결함 사이트를 빠르고 정확하게 감지하고 분류 할 수 있습니다. 이미징 프로세스 (Imaging process) 는 또한 엄격한 결함 일관성 알고리즘을 사용하여 결함 크기와 모양을 정확하게 결정함으로써 결함의 전체 너비를 캡처합니다. VISTEC MIS 200 은 유연성 향상을 위한 개방형 아키텍처를 갖추고 있으며, 기존 소프트웨어/하드웨어와의 업그레이드 및 통합을 지원합니다. 또한 이 자산은 빠르고 간편한 마스크, 웨이퍼 (wafer) 검사 설정, 강력하고 자동화된 결함 분석, 수정 툴을 위한 효율적인 사용자 인터페이스를 제공합니다. 이 모델은 입자 결함, 균열, 긁힘, 불완전한 흡수 레이어, 기타 일반적인 결함 등 다양한 유형의 결함 및 수차를 감지 할 수 있습니다. 또한, 최대 9 개의 레이어에서 다중 레이어 마스크 결함을 감지 할 수 있습니다. 또한 이 장비를 통해 결함 정보를 신속하게 분석하여 신속한 수정 (Prompt Correction) 을 수행하므로 테스트 프로세스를 실행 또는 재실행할 필요가 없습니다. MIS 200 Mask and Wafer Inspection System은 운영 마스크와 웨이퍼의 정확성을 향상시키는 효과적이고 효율적인 방법입니다. 혁신적인 광 장치 (Optical Unit), 강력한 자동 도구 (Automated Tools), 견고한 설계 기능을 갖춘 이 머신은 제품의 생산성과 신뢰성을 높이려는 제조업체에 이상적인 솔루션을 제공합니다.