판매용 중고 LEICA / VISTEC MIS 200 #293671055

라이카/비스텍 미스 200 (LEICA/VISTEC MIS 200) 은 생산 과정에서 사진술 패턴의 무결성을 조사하기 위해 설계된 혁신적인 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 특수 처리 알고리즘과 결합된 이미징 광학 (Imaging Optics) 의 독특한 설계를 통해 나노 스케일 기능의 고해상도 이미지를 빠르고 정확하게 형성하고 분석 할 수 있습니다. LEICA MIS 200 내에서 사용되는 이미징 광학은 현장 선택적 객관식 렌즈 및 냉각 디지털 카메라와 결합 된 고수치 조리개 (N.A.) 응축기를 기반으로합니다. 이 시스템은 넓은 시야로 나노 (nano) 스케일 패턴의 고해상도 이미지를 빠르게 얻을 수 있습니다. 결과 이미지는 매우 정확하며 세부 사항은 1 나노미터 미만으로 표시됩니다. 또한, 이 장치는 패턴 품질을 정확하게 측정하고 결함 식별을 수행하는 데 사용할 수있는 간섭 패턴 (interference pattern) 을 획득 할 수 있습니다. VISTEC MIS 200 (VISTEC MIS 200) 에서 사용하는 강력한 소프트웨어 알고리즘은 결함 분석에 매우 유용한 영상에서 정보를 추출할 수 있습니다. 예를 들어, 머신 (machine) 은 모든 패턴의 기하학적 특성에서 매우 작은 편차를 감지하고 웨이퍼 (wafer) 에서 심각한 결함을 식별할 수 있습니다. 또한, 소프트웨어는 장치 어레이 (Array of Device) 의 접촉 저항을 자동으로 측정할 수 있으므로 중요한 디바이스 매개변수에 대한 빠르고 안정적인 평가를 가능하게 합니다. MIS 200 툴에는 데이터 관리를위한 여러 기능이 있습니다. 이러한 기능에는 획득한 모든 이미지를 포괄적으로 추적할 수 있는 추적 능력 자산 (Traceability Asset) 과 획득한 모든 이미지와 결과를 나중에 참조할 수 있도록 저장하는 데이터 스토리지 (Data Storage) 기능이 포함됩니다. LEICA/VISTEC MIS 200은 photolithography 프로세스에서 나노 스케일 기능을 검사하기위한 업계 표준 도구입니다. 고해상도 (HRM) 이미지를 수집하여 철저한 결함 분석 및 장치 품질 (Quality of Device) 에 대한 자세한 평가를 가능하게 합니다. 또한, 이 모델은 고급 데이터 관리 (Advanced Data Management) 및 추적 기능 (Traceability) 기능을 제공하여 사용자가 획득한 모든 이미지와 결과를 저장하고 액세스할 수 있도록 합니다.