판매용 중고 LEICA / VISTEC MIS 200 #293671051

LEICA/VISTEC MIS 200은 반도체 산업에 사용되는 정교한 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 노출된 필름 마스크와 웨이퍼 기판의 고해상도 이미징 (High-resolution Imaging) 기능을 통해 마스크 및 웨이퍼에서 가장 작은 오류를 신속하게 감지할 수 있습니다. 이 시스템은 광학 (optics), 전자 (electronics), 소프트웨어 (software) 의 조합으로 인해 신뢰성이 높으며, 이는 모든 결함이 정확히 식별되고 매핑되도록 보장합니다. 이 장치에는 수많은 마스크 및 웨이퍼 형식을 처리 할 수있는 step-and-repeat 모듈이 포함되어 있습니다. 이 모듈은 프로그래밍 가능한 단계를 사용하여 정밀한 정렬을 허용합니다. 즉, 각 정렬에 대해 정확한 반복성을 제공합니다. 또한 고해상도 광학 머신 (Optics Machine) 은 밝은 필드 및 어두운 필드 이미지 처리를 모두 사용하여 높은 정확도를 보장합니다. optics 도구에는 다중 렌즈 디자인과 X 및 Y 좌표를위한 디지털 선형 인코더와 단일 축 Z축 제어가 포함 된 이미지 투영 에셋이 포함됩니다. LEICA MIS 200에는 종합적인 소프트웨어 환경도 포함되어 있습니다. 이 소프트웨어는 웨이퍼와 마스크를 정확하게 평가할 수 있는 도구를 제공합니다. 평면과 3D 이미지 모두에서 열린 (open) 결함과 닫힌 (closed) 결함을 모두 감지하고 분석할 수 있으며, 결함의 영향을 받는 영역을 결정합니다. 이 소프트웨어는 또한 완전한 결함 로깅 모델을 제공하며, 이러한 결과를 횡단면 이미지, 컨투어 맵, 스캐터 플롯 (spatter plot) 등 다양한 형식으로 표시할 수 있습니다. 이 장비는 쉽게 작동하고 유지 관리할 수 있도록 설계되었습니다. 온보드 진단 (on-board diagnostics) 을 통해 문제를 빠르고 효과적으로 진단하고 해결합니다. 또한 사용자는 자습서에 액세스할 수 있으며, 사용자 사양에 맞게 시스템을 구성하는 데 필요한 모든 도움말에 대한 설명서를 참조하십시오 (영문). 또한, 필요에 따라 장치를 지속적으로 최적화할 수있는 자동 교정 (Automatic Calibration) 및 최적화 (Optimization) 기능이 특징입니다. 전반적으로 VISTEC MIS 200은 마스크 및 웨이퍼 검사를위한 독특하고 강력한 기계를 제공합니다. 고급 옵틱 (Optic), 소프트웨어 (Software), 유지 보수 (Maintenance) 기능을 갖춘 이 툴은 이 중요한 업계에서 탁월한 성능과 신뢰성을 제공하도록 설계되었습니다.