판매용 중고 LEICA / VISTEC LWS 2000 #9115819

LEICA/VISTEC LWS 2000 Mask & Wafer Inspection 장비는 포토 마스크 또는 웨이퍼를 정확하게 검사하도록 설계된 다용도 고성능 기기입니다. 이 시스템에는 정밀한 500mm x 500mm 스테이지와 고해상도의 저왜곡 카메라가 장착된 AMat (Automated Mask Aligner) 가 장착되어 있어 고품질 이미징이 가능합니다. LEICA LWS 2000은 또한 단일 프레임에서 넓은 시야를 캡처 할 수있는 고급 스캔 헤드 (scan head) 를 갖추고 있습니다. 통합 광학 장치는 이미징 중에 웨이퍼/마스크를 정확하게 정렬하여 정확한 측정을 보장하도록 최적화되었습니다. On-board alignment software를 사용하면 포커스를 빠르고 정확하게 설정하고 조정할 수 있습니다. 마스크 & 웨이퍼 검사 (Mask & Wafer Inspection) 머신에는 직관적 인 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphical User Interface) 가 포함되어 있어 다양한 강력한 알고리즘에 쉽게 액세스할 수 있습니다. 통합 도량형 도구를 사용하여 리소그래피 프로세스를 평가하고, 패턴-모서리 (pattern-edge) 또는 패턴 교차 (pattern-crossing) 오류와 같은 결함을 감지하고, 패턴의 임계 치수를 정확하게 추정할 수 있습니다. 고급 스티칭 (Stitching) 및 자동 검증 (Automated Qualification) 툴을 통해 사용자는 웨이퍼 검증을 위해 필요할 수 있는 다양한 매개변수를 신속하게 평가할 수 있습니다. 또한 색상, 결함, 입자, 이상, 외부 재료 및 기타 변수를 감지할 수 있습니다. 임의의 기하학 (geometries) 과 피쳐에서 안정적으로 결함을 감지할 수 있도록 완벽하게 구성 가능한 통합 조명 (Integrated Illumination) 옵션 세트가 장착되어 있습니다. 또한, 자산은 다양한 통합 알고리즘을 활용하여 신속한 결함 감지 및 보고 기능을 제공합니다. 초고속 이미징 기능을 통해 대규모 웨이퍼 영역을 빠르고 효율적으로 분석할 수 있습니다. 또한, VISTEC LWS 2000은 강력한 수학 지향 도구 세트를 제공하여 웨이퍼 피쳐를 정확하게 분석하고, 결함을 식별하고, 특정 매개변수를 측정할 수 있습니다. 사용자는 이러한 측정을 절대 (absolute), 상대 (relative) 또는 혼합 (mixed) 모드로 수행할 수 있으므로 분석과 개선이 더욱 가능합니다. 또한, 통합 패턴 인식 알고리즘은 복잡한 설계 구조에서 이상을 감지 할 수 있습니다. 이 모델은 정확한 웨이퍼 (wafer) 측정 및 결함 탐지가 필요한 모든 응용 프로그램에 적합합니다.