판매용 중고 LEICA / VISTEC LDS 300M #9249428

LEICA/VISTEC LDS 300M은 포토 마스크 및 웨이퍼 제조업체의 고급 요구를 충족하도록 설계된 첨단 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 빠르고 정확하며 매우 상세한 결함 감지를 지원합니다. LEICA LDS 300M은 LDS (Advanced Laser Diode Scanning) 기술과 강력한 이미징 소프트웨어를 결합하여 0.6jm의 작은 결함을 감지합니다. VISTEC LDS 300M은 200mm 및 300mm 크기의 마스크와 웨이퍼를 쉽게 검사할 수 있도록 설계되었으며, 최대 시야는 25mm x 25mm, 최대 해상도는 3jm입니다. 이 장치의 자동 보정 (automatic calibration) 을 통해 검사된 포토마스크 및 참조 포토마스크가 세부적인 시각화 및 결함 분석을 위해 정확하게 정렬됩니다. LDS 300M의 독특한 조명기에는 가변 삼각형 (Variable Triangle) 및 가변 펄스 이미징 (Variable Pulse Imaging) ™ 이 포함되어 있으며, 이는 가변 각도와 가변 펄스 조명의 고대비 고해상도 이미지를 제공합니다. 이를 통해 결함, 작은 드리프트 및 마이크로 크랙 (micro-crack) 도 자신감있게 감지되고 분석됩니다. 또한 LEICA/VISTEC LDS 300M은 빠른 속도, 정확성 및 신뢰성을 갖춘 넓은 영역에 대한 검사, 검토 및 분석을 수행할 수 있습니다. LEICA LDS 300M은 또한 검사 된 마스크 및 웨이퍼에서 이상을 자동으로 식별하는 알고리즘을 포함하여 고급 결함 분류 도구를 제공합니다. 이 툴의 고급 소프트웨어 패키지 (advanced software package) 에는 테스트 결과를 설정 및 분석하는 방법에 대한 단계별 지침을 제공하는 여러 분류 문서가 포함되어 있습니다. 또한 VISTEC LDS 300M의 검사 결과는 카세트 테이프 (JPEG 파일) 에 저장할 수 있으며 USB를 통해 내보낼 수 있습니다. LDS 300M 은 포토마스크 (photomask) 와 웨이퍼 (wafer) 기술의 가장 작은 결함까지도 감지하고 분석할 수 있도록 설계된 강력하고 안정적인 자산입니다. 이 모델의 고급 LDS 및 이미징 기술은 직관적인 소프트웨어, 사용자 친화적 운영 체제와 결합하여, 정확한 결함 감지 및 분석을 보장합니다. 또한 LEICA/VISTEC LDS 300M은 신뢰할 수 있는 고성능 마스크 및 웨이퍼 검사 장비를 찾는 photomask 및 wafer 제조업체에 이상적인 솔루션입니다.