판매용 중고 LEICA / VISTEC INS 3300 #9196670

LEICA/VISTEC INS 3300 Mask & Wafer Inspection Equipment는 집적 회로 마스크 및 웨이퍼의 결함을 감지하도록 설계된 고급 검사 시스템입니다. 최종 사용자가 '근본 원인 (root cause)' 을 수정하도록 도와 주면서 운영 라인의 결함을 실시간으로 표시할 수 있습니다. 이 기계는 패턴 (pattern) 및 토폴로지 인식 (topological recognition) 의 최신 기능을 활용하여 광범위한 구조 형상에서 다양한 결함을 감지하여 제품 품질을 높일 수 있습니다. LEICA INS 3300 도구는 3 백만 픽셀 고해상도 카메라와 300mm 렌즈를 갖추고 있습니다. 이 강력한 이미징 솔루션은 정교한 이미지 처리 알고리즘 (image processing algorithm) 과 결합하여 자산이 가장 복잡한 패턴에서 miniscule 결함을 감지할 수 있습니다. 카메라 센서 (Camera Sensor) 및 이미지 처리 (Image Processing) 알고리즘은 표면 토폴로지 조건에 대한 매우 정밀한 평가에 최적화되어 분석에서 탁월한 수준의 디테일을 제공합니다. 모델의 고급 패턴 인식 (Advanced Pattern Recognition) 기능을 사용하면 누락되거나 배치되지 않은 피쳐나 스크래치, 입자, 에치 피트 등의 물리적 결함을 신속하게 식별할 수 있습니다. 이 장비는 4,000 픽셀/초의 속도로 스캔할 수 있으며, 높은 처리량과 빠른 회전 시간 (turn-around time) 을 제공합니다. VISTEC INS 3300 Mask & Wafer Inspection System은 신속한 결함 감지 기능 외에도 직관적이고 사용하기 쉽습니다. 장치의 사용자 인터페이스 (user interface) 는 간편한 탐색을 위해 설계되었으며, 사용자가 검사 설정과 프로세스를 완벽하게 제어할 수 있도록 합니다. 또한 사용자 인터페이스 (User Interface) 에는 강력한 통계 기능이 포함되어 있어 정교한 분석 (Analysis) 을 빠르고 효율적으로 수행하여 운영 또는 프로세스 관련 문제를 파악할 수 있습니다. INS 3300 머신은 피드백 제어 시스템 (feedback control system) 이 통합되어 설계되었으며, 수신되는 신호에 따라 자동으로 조정됩니다. 즉, 수동으로 조정할 필요 없이 장치를 안정적이고 정확하게 감지할 수 있습니다 (영문). 마지막으로, 이 툴에는 처리 중인 중요한 데이터를 보호하는 강력한 보안 기능 (security features) 과 도구 (tools) 가 포함되어 있습니다. 고급 액세스 제어, 데이터 암호화, 방화벽 네트워크 연결, LEICA/VISTEC INS 3300 자산의 데이터 보안으로 보호됩니다. 또한 LEICA INS 3300 Mask & Wafer Inspection Model (LEICA INS 3300 마스크 및 웨이퍼 검사 모델) 은 정확성, 안정성 및 보안을 통해 다양한 결함을 효과적으로 감지하는 고급 사용자 친화적 결함 검사 장비입니다.