판매용 중고 LEICA / VISTEC INS 3300 #9121040

ID: 9121040
웨이퍼 크기: 12"
System, 12" Eyepiece: L/R, HC plan 10x/25 Control panel: joystick and trackball Keyboard System computer Prealigner Wafer changer wafer stage CCD Camera Clean air filter Loader unit: single type load port.
LEICA/VISTEC INS 3300은 가장 까다로운 반도체 제조 어플리케이션을 위해 설계된 최첨단 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 고급 Optic 및 Automation 기술을 통해 빠르고, 정확하고, 반복적이며, 신뢰할 수 있는 검사를 수행할 수 있습니다. LEICA INS 3300은 고정밀 인코더가있는 독특한 닫힌 루프 서보 기반 스테이지 시스템을 사용하여 샘플 웨이퍼의 위치, 방향, 배율을 정확하게 제어합니다. 이를 통해 다양한 과제에 걸쳐 일관된 결과를 얻을 수 있습니다. 이 장치에는 고해상도 (High Resolution), 고속 스캐닝 (Fast Scanning), 고대비 (High Contrast) 를 제공하는 고급 이미징 머신이 장착되어 있어 결함 탐지가 매우 세부적입니다. 강력한 이미지 분석 알고리즘이 장착되어 있어 안정성, 반복 가능, 정확한 결함 감지, 특성화가 가능합니다. VISTEC INS 3300은 고급 옵틱 (Optic) 및 이미징 (Imaging) 툴 외에도 강력한 자동화 자산 (Automation Asset) 으로, 단시간 내에 많은 웨이퍼를 처리할 수 있습니다. 이 모델에는 공구 교정 (Tool calibration) 및 웨이퍼 (Wafer) 교정 기능이 장착되어 있어 사용자가 프로세스를 사용자 정의하여 처리량을 그대로 유지하면서 최고의 정확성과 반복성을 보장할 수 있습니다. 또한, INS 3300 은 직관적이고 인체 공학적 (ergonomic) 사용자 인터페이스를 제공하여 장비를 쉽게 제어하고 이미지를 분석할 수 있습니다. 또한 강력한 데이터 처리 (data processing) 기능을 통해 사용자가 신속하게 결과를 분석하고 상세한 보고서를 작성할 수 있습니다. 이렇게 하면 결함 이 신속 히 확인 되고 수정 되고, 생산량 이 최대화 된다. 전반적으로 LEICA/VISTEC INS 3300은 강력하고 안정적이며 사용하기 쉬운 마스크 및 웨이퍼 검사 장치입니다. 이 제품은 다양한 반도체 (semiconductor) 생산 프로세스와 함께 사용하도록 설계되었으며, 사용자는 최고 수준의 정확도, 속도, 반복성을 얻을 수 있습니다.
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