판매용 중고 LEICA / VISTEC DM5500B #9161873

LEICA/VISTEC DM5500B 는 고정밀도, 종합적인 마스크 및 웨이퍼 (wafer) 검사 장비로, 집적 회로 부품의 패턴과 설계를 종합적으로 분석합니다. LEICA DM5500B는 얇은 유전체 필름, 서브미크론 필드 구조화 요소, 포토 마스크 등 다양한 장치를 정확하게 측정합니다. 이 시스템은 다양한 배율로 최대 300mm (wafer) 크기의 다양한 웨이퍼를 다룹니다. 강력한 컴퓨터 제어 스캔 장치 (computer control scan unit) 를 통해 품질 분석을 위한 일관되고 안정적인 데이터를 보장합니다. 이 기계의 자동 스캐닝 (automated scanning) 기능을 통해 연산자는 박막 레이어, 분리된 피쳐, 정렬 등록 매개변수 등의 패턴 형상, 측정 및 결함을 신속하게 검사하고 분석할 수 있습니다. 기본 제공되는 보고 기능은 각 스캔을 자동으로 보고하며, 전자 방식으로 공유할 수 있습니다. VISTEC DM5500B 는 고급 측정 및 결함 분석 기능을 제공하여, 매칭 (matching), 오버레이 (overlay), 접촉 구멍 모양 (contact hole shape), 선/공간 형상 (line/space geometry) 과 같은 매개변수 추세를 질적으로 정량적으로 분석할 수 있습니다. 완벽한 특성화 및 데이터 상관 관계를 위해 도구의 어레이 (array) 및 웨이퍼 (wafer) 매핑 (mapping) 옵션은 잠재적인 결함의 좌표를 완전한 자신감으로 나타냅니다. 이 결과는 다른 테스트 데이터와 함께 즉시 모니터링하고 분석할 수 있습니다. 또한 배치 정밀도 (placement accuracy) 는 미리 특성화된 웨이퍼 템플릿으로 관찰할 수 있습니다. 이 템플릿은 파일에서 에셋에 빠르게 로드되고 세그먼트 (segmented) 웨이퍼에서 스캔할 수 있습니다. DM5500B 는 고해상도 디지털 옵틱 (Digital Optic) 과 회절 이미징 (Diffractive Imaging) 기술로 웨이퍼를 검사합니다. 이 기술을 통해 노출된 패턴의 무결성을 보호하면서 초점과 화질을 강화할 수 있습니다. 이 모델은 의사 스테퍼 또는 미러 스테퍼 플랫폼에서 OPC (Optical Proximity Correction) 를 읽고 기록하여 OPC 프로세스의 자세한 유효성 검사를 가능하게 합니다. 이 장비에는 시작 화면 (Start-up Screener) 및 통합 보고서 관리자 (Integrated Report Manager) 와 같은 생산성 향상 기능이 내장되어 있습니다. 이러한 기능은 사용자의 특정 요구 사항에 맞게 조정될 수 있습니다. 즉, 시스템을 설정하여 성능을 최적화할 수 있습니다. Start-up Screener 는 신속한 마스크 품질 제어, 자동 보고서 생성에 사용할 수 있습니다. 고급 결함 클러스터링 (옵션) 기능을 사용하면 "특별한" 결함의 추가 특성화가 가능하며, 자동 결함 분류 도구는 향상된 품질 관리 프로세스를 지원합니다. 또한 LEICA/VISTEC DM5500B 는 원격 검사/분석 기능을 지원하며, 숙련된 운영자가 직접 유닛에 액세스하여 실행할 수 있도록 하며, 여러 사용자에 대한 데이터 및 분석을 검토할 수 있습니다. 이를 통해 사용자는 필요한 모든 프로세스, 즉 새로운 추세 (trend) 를 신속하게 파악하여 운영 생산량을 지속적으로 향상시킬 수 있습니다. 강력하면서도 사용하기 쉬운 소프트웨어와 함께 LEICA DM5500B 는 강력하고 포괄적인 마스크 및 웨이퍼 (wafer) 검사 시스템입니다. 이 툴은 포괄적인 통과/실패 (pass/fail) 테스트에 필요한 정확성과 정확성을 사용자에게 보장합니다.