판매용 중고 LEICA INS 3000 #9148695

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ID: 9148695
웨이퍼 크기: 8"
Wafer defect inspection system, 8" Open cassette 150x / 0.95 APO 100x / 0.90 APO 50x / 0.85 APO 10x / 0.30 HCPL 5x / 0.12 PL 5x / 0.90 PL.
LEICA INS 3000은 웨이퍼 및 레티클 제작을 위해 설계된 강력한 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 첨단 이미징 (advanced imaging) 기법과 능동적 (proactive) 수학적 알고리즘을 모두 사용하여 웨이퍼와 레티클의 미묘한 결함을 감지합니다. 이 시스템은 매우 민감한 와퍼 (Wafer) 와 레티클 (Reticle) 에 작은 입자의 모양을 감지하는 특허 된 고주파 (High Frequency) 알고리즘과 매우 민감한 광역 색상 이미징 장치를 통합합니다. 이미징 머신 (Imaging Machine) 은 웨이퍼 표면의 모든 픽셀에서 와퍼의 고품질 색상, 넓은 영역 이미지를 캡처합니다. 공구가 진폭 및 위상 결함을 감지 할 수있는 정교한 다크 필드 광학 (darkfield optics) 을 사용하여 웨이퍼 (wafer) 에 존재할 수있는 모든 오염 물질이 더 분명하게 렌더링됩니다. 이미징 에셋은 또한 특허 출원 중인 활성 측정 구조 (active measurement structure) 를 특징으로하며, 이를 통해 정확한 픽셀 등록이 가능하며, 이미지가 왜곡되고 흐려지지 않도록 할 수 있습니다. 이 기능을 통해, 모델은 캡처하는 이미지가 가장 높은 해상도와 선명도 (clarity) 를 갖도록 합니다. LEICA INS-3000은 효율성과 정확성을 위해 설계되었습니다. 몇 가지 자동 검사 주기 (Automated Inspection Cycle) 를 통해 고객의 특정 요구 사항에 대한 검사를 사용자 정의할 수 있습니다. 이는 웨이퍼 (wafer) 및 레티클 검사 (reticle inspection) 작업 측면에서 반복 가능하고 정확한 결과를 보장합니다. 이 장비는 또한 APC (Advanced Process Control) 기능으로 제작되었으며, 이를 통해 시스템을 구성하여 높은 정확도와 정확도로 감지된 결함을 진단하고 수정할 수 있습니다. INS 3000에는 웨이퍼 에지 제어 기술도 포함되어 있습니다. 이 기능은 웨이퍼의 주변이 문제의 레티클 (reticle) 패턴과 정확하고 정확하게 정렬되도록 합니다. 또한이 장치는 이중 단계 프로세스 제어로 설계되었습니다. 이 로 말미암아, 어느 때 보다도 더 빠른 속도 와 정확도 로, 조금씩 이상 이 검출 되고 격리 된다. 이 기계는 숙련되고 직관적인 사용자 인터페이스를 통해 운영 및 지속적인 지원을 용이하게합니다. 운영자는 일련의 직관적인 기능과 기능을 통해 검사 작업을 정확하고 효과적으로 관리하고, 데이터를 분석하고, 실시간으로 진행 상황을 모니터링할 수 있습니다 (영문). 또한, 문제 발생 시 문제 해결 정보를 제공하는 진단 유틸리티도 내장되어 있습니다. 요약하면, INS-3000은 웨이퍼 및 레티클 제작을 위해 설계된 강력한 마스크 및 웨이퍼 검사 자산입니다. 업계 최고의 정밀도로 미묘한 결함을 정확하게 감지하고 격리 할 수 있습니다. 이 모델은 자동 검사 주기, APC 기능, 웨이퍼 에지 제어 기술, 이중 단계 프로세스 제어 등 뛰어난 기능을 제공합니다. 또한 사용이 간편하고 유연하며, 문제 해결 및 진단 기능을 제공하는 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 를 제공합니다.
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