판매용 중고 LEICA INS 2000 #9378304

라이카 인스 2000 (LEICA INS 2000) 은 마스크 및 웨이퍼 검사 장비로 출시 시간을 줄이고 수율을 늘리도록 설계되었습니다. 여기에는 마스크의 모든 레이어를 여러 기능과 함께 검사할 수있는 AOI (Automated Optical Inspection System) 가 포함되어 있습니다. 이 장치에는 자동 정렬 프로세스 (Automatic Alignment Process) 가 있으며, 고급 고해상도 디지털 카메라를 사용하여 마스크 및 웨이퍼 수준의 리소그래피 마스크를 정확하게 정렬하여 정확하고 반복 가능한 정렬 성능을 제공합니다. 이렇게 하면 마스크의 모든 레이어에 대한 일관된 검사 결과가 유지됩니다. 이 기계는 또한 입자 결함, 웨이퍼, 가장자리 결함, 다리, 클리핑에 이르기까지 다양한 마스크 결함을 감지 할 수있는 엄격하고 포괄적 인 스마트 결함 감지 알고리즘 세트를 제공합니다. 이러한 알고리즘은 리소그래피 프로세스에서 누락된 결함을 감지하고 플래깅할 수 있습니다. 이를 통해 사용자는 제조 마스크 (Mask for Manufacture) 를 공개하기 전에 이러한 결함을 신속하게 식별, 평가 및 해결할 수 있습니다. 또한, INS 2000 은 단일 실행으로 여러 마스크의 결함을 분석할 수 있으며, 이를 통해 마스크의 잠재적 결점을 신속하게 파악할 수 있습니다. 이 도구에는 3D 렌더링 기능도 포함되어 있습니다. 이 기능은 마스크 및 웨이퍼 결함에 대한 보다 자세한 미세한 관점을 제공하며, 이를 통해 사용자는 결함을 명확하게 시각화하고 그에 따라 검사 매개변수를 신속하게 조정할 수 있습니다. 또한 LEICA INS 2000은 몇 초 안에 결함 요약을 생성 할 수 있습니다. 이것은 마스크 승인 프로세스를 마무리하는 데 특히 유용 할 수 있습니다. 이 기능을 사용하여 사용자는 감지된 비정상 (detected idnoralities) 목록을 신속하게 생성하여 프로세스 매개변수 (process parameter) 를 조정하거나 수리 워크플로를 더욱 최적화할 수 있도록 프로세스 엔지니어 (Process Engineer) 에게 제시할 수 있습니다. 마지막으로 INS 2000에는 WYSIWYG (What You See Is What You Get) 기능이 있으므로 사용자가 화면에서 검사 결과를 즉시 볼 수 있습니다. 이 기능은 프로세스 최적화를 위한 빠른 피드백 루프를 제공하는 데 특히 유용합니다. 전반적으로 LEICA INS 2000은 종합적인 마스크 및 웨이퍼 (wafer) 검사 자산으로, 사용자가 시장 진출 시간을 줄이고 수익률을 높일 수 있도록 도와줍니다. 고급 AOI 기능, 직관적인 마스크 분석 및 WYSIWYG 기능을 갖춘 INS 2000은 정확하고 정확한 검사 성능이 필요한 사용자에게 이상적인 선택입니다.