판매용 중고 LEICA INS 2000 #293663459
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LEICA INS 2000은 폐쇄 루프, 초고속 생산 프로세스의 측정 및 품질 보증을 위해 설계된 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 인라인 사용 및 품질 모니터링을 위한 유연한 광학 설정 (Optical Setup) 이 특징이며, 고정밀 마스크 및 웨이퍼에서 3.0 ½ m 크기까지 결함을 감지 할 수 있습니다. INS 2000은 어두운 필드 조명, 그림자 명암비, 가장자리 대조와 같은 고급 이미징 기술을 사용하여 검사되는 마스크 또는 웨이퍼의 모서리, 모서리, 오버랩 및 기타 불규칙성을 감지합니다. 또한 결함 피쳐를 인식하고 마이크로 미터 크기의 입자를 감지 할 수 있습니다. 이 시스템에는 고대비 인식 (High-Contrast Recognition) 기능이 장착되어 있어 가시 입자, 스크래치, 변형 등 가장 어려운 기능 유형도 감지할 수 있습니다. 또한 다중 이미지 모드 기능 및 온보드 소프트웨어를 통해 빠르고 직관적인 작업을 수행할 수 있습니다. 또한 LEICA INS 2000 은 최고 의 정확도 를 위한 고해상도 (High Resolution) 광학 장치 를 갖추고 있으며, 자동 시야 보정 장치 (Field of View Calibration Unit) 를 통해 빠른 설정과 손쉬운 작동을 지원합니다. 전체 웨이퍼 (wafer) 와 다양한 마이크로 구성 요소를 분석하는 고급 검사 알고리즘 (advanced inspection algorithms) 이 장착되어 검출된 불규칙성을보고합니다. 또한 강력한 소프트웨어 제품군으로, 실시간 결함 분류, 분류 제어, 보고 기능을 제공합니다. INS 2000 에는 프로세스 매개변수 (process parameter) 를 실시간으로 모니터링하고 조정할 수 있는 프로세스 피드백 제어 시스템이 내장되어 있어, 반복 가능성을 극대화하고 프로세스 주기 시간을 단축할 수 있습니다. 또한 고급 분석 (Advanced Analysics) 을 활용하여 시간이 지남에 따라 프로세스 추세를 모니터링하여 모든 불규칙성을 파악하고 해결할 수 있습니다. 마지막으로, 이 툴은 연중무휴 24시간 (연중무휴) 기술 지원을 통해 모든 문제를 신속하고 효율적으로 해결할 수 있습니다. 전반적으로 LEICA INS 2000은 고급 이미징 기술 및 분석을 활용하여 정확하고 안정적인 측정 결과를 제공하는 고정밀 마스크/웨이퍼 검사 자산입니다. 양질 보증 (Quality Assurance) 조직에서 검사 요구에 대한 신뢰할 수 있고 간단한 솔루션을 찾는 데 이상적인 선택입니다.
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