판매용 중고 LEICA INS 2000 #293626746
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LEICA INS 2000은 LEICA Microsystems의 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 가장 복잡한 마스크 다운 리토 시스템 (최대 1X, 2X 및 5X 레티클) 에서 처리량을 극대화하고 가장 작은 결함을 파악하도록 설계된 핸즈프리 (Hands-Free) 장치는 중요한 전면 및 후면 마스크 결함을 신속하게 검사하는 데 적합합니다. INS 2000에는 마스크 및 웨이퍼 (wafer) 또는 필름 (film) 의 정밀 정렬을 위해 필수적인 고급 운동학 및 진단이 포함되어 있습니다. 자동 설정, 병렬 감지 및 웨이퍼 측정으로, 기계는 작동 오류를 제거하고 수동 정렬에 낭비되는 시간을 제거합니다. 이를 통해 가장 빠른 속도로 최고 수준의 결과를 얻을 수 있습니다. LEICA INS 2000은 'Confocal Imaging' 이라는 특허 광학 방법을 사용하여 최고 해상도의 마스크 및 웨이퍼 표면을 검사합니다. 이 방법은 저전력 레이저 광원 (Laser Light Source) 과 마스크 (Mask) 또는 웨이퍼 (Wafer) 의 표면 사이의 상호 작용에 기반한 이미징 기술에 의존합니다. 이 도구는 서브 미크론 해상도로 표면 구조의 고해상도 이미지를 캡처합니다. INS 2000 은 자동 결함 추적 (automatic defect tracking) 소프트웨어를 탑재하여 인건비를 더욱 줄이고 보다 정확하고 안정적인 결과를 얻을 수 있습니다. 에셋은 또한 결함 분류 (defect classification) 및 우선 순위 지정 (prioritization) 옵션을 제공합니다. 이 옵션은 발견된 결함을 크기와 피쳐 속성에 따라 그룹화하여 프로세스를 간소화합니다. 이는 보다 효율적인 운영 프로세스를 보장하며 비용을 절감하는 데 도움이 됩니다. 라이카 인스 2000 (LEICA INS 2000) 은 또한 모듈 식 설계를 통해 생산 요구 사항의 변화에 따라 모델을 쉽게 조정할 수 있습니다. 이 기능은 고속, 정확성, 반복성 (repeatability) 과 결합하여 높은 처리량 검사 프로세스에 적합합니다. 인에스 2000 (INS 2000) 은 정확한 표면 지형을 식별하기 위해 최신 기술과 이미징 기술을 통합 한 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 마스크와 웨이퍼 (wafer) 표면을 빠르고 효율적으로 검사할 수 있으며, 이는 일관성 있고 안정적인 최종 제품을 제공하는 데 필수적입니다. LEICA INS 2000은 모듈식 디자인과 특허를 획득한 Optic으로, 마스킹 및 웨이퍼 검사 시스템을위한 탁월한 솔루션입니다.
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