판매용 중고 LASERTEC PEGSIS P100 #9140823

LASERTEC PEGSIS P100은 고급 photolithography 프로세스의 연구 및 개발을 위해 설계된 마스크 및 웨이퍼 검사 시스템입니다. 필요한 결함 감지 및 분류 기능을 제공하며, 스피너 기반 서피스 스캐닝 기술과 이미지 기반 방법을 모두 제공합니다. P100 의 분석 (analytical) 기능을 통해 각 결함의 크기, 위치, 기타 기능을 보다 세밀하게 평가할 수 있으며, 설계 과정에서 발생할 수 있는 모든 문제를 신속하게 평가하고 문제를 해결할 수 있습니다. P100에는 고급 4-way x-ray 스캔 기능, 전용 패턴 인식 시스템, 정교한 설계 비교 알고리즘이 장착되어 있습니다. 4-way x-ray 스캐닝을 사용하면 지형적으로 복잡한 기능과 세밀한 결함 또는 비정상적인 결함을 의도적으로 식별할 수 있습니다. 이 스캐닝 시스템 (Scanning System) 은 이러한 기능의 정확한 측정 및 분석을 가능하게 하며, 마스크 (Mask) 와 웨이퍼 (Wafer) 구조 및 구성의 여러 측면에 대한 추가 정량적 평가를 위해 필요한 정량적 데이터를 제공합니다. 또한 P100은 일반 마스크 및 웨이퍼 결함을 자동으로 감지하기 위해 패턴 인식 (pattern recognition) 및 비교 시스템으로 설계되었습니다. 이 시스템은 빠르고 효율적인 결함 식별을 제공하고 웨이퍼 (wafer) 와 마스크 (mask) 구조의 변화를 예측하고 예상하도록 특별히 설계되었습니다. 패턴 인식 시스템 (pattern recognition systems) 은 또한 이미지 유사성 분석을 수행 할 수 있으며, 이는 엔지니어링 설계와 관련된 유사한 결함을 식별하고 증명하는 데 도움이됩니다. 이미지 유사성 분석은 P100의 기능 기반 설계 비교 알고리즘 (feature-based design comparison algorithms) 에 의해 더욱 보완되어 마스크 및 웨이퍼 구조의 다양한 측면을 포괄적으로 평가 할 수 있습니다. P100은 서로 다른 설계를 비교함으로써 P100 (P100) 의 유사성과 차이점을 파악하고 설계 프로세스와 모든 마스크 또는 웨이퍼 이상 (wafer anomalies) 간의 상관 관계를 생성합니다. 따라서 PEGSIS P100 (PEGSIS P100) 은 결함을 신속하게 감지하고 분류하는 기능을 갖춘 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 기능을 제공하도록 설계되었습니다. X-ray 스캐닝 (X-ray scanning), 패턴 인식 (pattern recognition) 및 설계 비교 알고리즘이 결합된 P100은 강력하고 다양한 분석 통찰력을 제공하여 모든 설계 프로세스를 신속하게 해결하고 최적화할 수 있습니다.