판매용 중고 KOBELCO / LEO EPM #293642530

KOBELCO/LEO EPM은 반도체 제조 공장에 사용되는 최첨단 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 모든 생산 단계에서 마스크 및 웨이퍼 (wafer) 무결성을 검증하는 종합적인 검사 솔루션을 제공하여 결함으로 인한 수익률 손실을 줄이는 데 도움이 됩니다. 이 장치는 고해상도 이미징, 포토마스크 평가, 자동 검사를 사용하여 기하학과 결함을 빠르고 정확하게 측정합니다. 이를 통해 장치 간 (to-wafer) 변형을 신속하게 식별하여 생산 프로세스를 신속하게 조정하고 제품 품질을 향상시킬 수 있습니다. 기계는 또한 포토 마스크 노출 및 웨이퍼 에칭 중에 결함을 감지 할 수있다. 이 도구는 고급 레이저 (advanced laser) 및 하전 입자 이미징 에셋 (charged particle imaging asset) 과 같은 다양한 혁신적인 기술을 통합합니다. 이 모델은 기존의 광학 현미경 (optical microscopy) 에 비해 포토 마스크 및 웨이퍼 검사의 정확도와 해상도를 100 배 높입니다. 하전 입자 이미징 장비 (Charged Particle Imaging Equipment) 는 결함을 식별하고 찾는 데 있어 탁월한 정확성을 제공하며, 이보다 더 비용 효율적인 감지를 가능하게합니다. LEO EPM은 또한 포토 마스크 및 웨이퍼의 고해상도 이미지를 생성하기위한 자동 이미징 시스템을 갖추고 있습니다. 이 장치는 이미지 처리 (image processing) 를 수행하여 저장된 데이터와 이미지를 비교하여 빠르고 안정적인 결과를 제공합니다. 또한 다양한 유형의 그래픽 데이터 및 서면 보고서를 출력할 수 있습니다. 전체적으로이 기계는 마스크 (Mask) 와 웨이퍼 (Wafer) 검사에 대한 포괄적이고 효과적인 접근 방식을 제공하여 결함이있는 제품으로 인한 수익률 손실을 줄이는 데 도움을줍니다. 이 도구의 고해상도 이미징 (High Resolution Imaging) 및 자동화된 프로세스도 신속하고 정확한 검사를 보장하며, 이를 통해 제조업체는 운영 프로세스를 적시에 조정할 수 있습니다. KOBELCO EPM (KOBELCO EPM) 을 통해 제조업체는 반도체 제작 작업과 관련된 위험을 줄이고 고객에게 더 나은 품질의 제품을 제공할 수 있습니다.