판매용 중고 KLA / TENCOR Surfscan SP2 #9228176

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ID: 9228176
빈티지: 2006
Particle measurement system, 12" P/N: 0074965-000 Sensitivity modes includes: Standard throughput inspection mode High throughput inspection mode High sensitivity inspection mode Advanced illumination optics supports following mode: Normal illumination Oblique illumination Enables qualification of current and next-generation substrates: SOI Strained SOI Strained SI Optimized sensitivity Throughput: - < 37nm defect sensitivity on polished bare silicon Qualification and monitoring of process tools: 90, 65, & 45 nm technology nodes Components included: UV Laser Defect map and histogram with zoom Micro view measurement capability Surf image Real-time defect classification (RTDC) Operating system: Microsoft Windows XP Book on board Operations manuals Puck handling: 300/200mm Equipped with powder coat painted panels Phoenix dual FIMS vacuum wafer handler, 12" (pp) Secondary UI for bulkhead installation Configured for MCCB (us/eu) power inlet Configured for IC/OEM mfg surf quality recipe Optical filter Enhanced XY coordinates: Standard classification LPD-N classification LPD-ES classification Grading and sorting 20 Degree 40 Degree Rough films Enabled: Haze Haze normalization Haze analysis Haze line classification IDM SP2 Edge exclusion: 2mm 4 Color light tower (RYGB) Gem/secs and HSMS E39 Object services: E40 Process job management E94 Control job management E90 Substrate tracking E87 Carrier management services (based on e39) Control jobs (E94 Based on E39) Substrate tracking (E90 Based on E39) (2) Advantage radio frequency (RF) carrier ID readers: Identifies name of carrier (FOUP) Intended for use with phoenix handler and isoport loadports Reader required for each FOUP loadport 2006 vintage.
KLA/TENCOR Surfscan SP2는 반도체 제작 산업을 위해 설계된 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 집적 회로 및 기타 마이크로 일렉트로닉 장치 (microelectronic device) 의 생산에 대한 이미지 품질, 패턴 충실도 (pattern fidelity) 및 심층적 결함 검사를 검사할 수 있습니다. 최고 수준의 마스크 (mask) 와 웨이퍼 (wafer) 이미지를 제작할 수 있는 탁월한 이미징 속도와 해상도를 제공합니다. KLA Surfscan SP2는 고속 처리를 위해 고성능 컴퓨터 장치와 연결된 고급 광학 (Advanced Optics) 및 고급 탐지기 (High-End Detector) 로 구동됩니다. Laser Interferometric Confocal Technology (LCT) 를 사용하여 하위 픽셀 크기의 결함을 캡처하고 분석합니다. 또한 특허를 받은 3D 스캔 렌즈와 HD 이미지 검출기를 활용하여 검사의 정확성을 높입니다. TENCOR SURFSCAN SP 2에는 Al2O3, INP, SiGe 등과 같은 다양한 웨이퍼 재료에 대한 일련의 보정 표준이 장착되어 있습니다. 이렇게 하면 검사 중에 최상의 이미징 결과를 얻을 수 있습니다. 이 도구는 또한 마스크 또는 웨이퍼에서 다양한 비정상적인 3D 패턴을 감지 할 수 있으며, 이를 통해 미묘한 결함 및 변형을 개선 할 수 있습니다. KLA/TENCOR SURFSCAN SP 2는 종합적인 마스크 및 웨이퍼 검사 솔루션을 제공하도록 설계되었습니다. 여기에는 Moire 패턴, fiducials, CD 패턴 및 0.12 미크론까지 마이크로 패턴을 검사하는 기능이 포함됩니다. 이 모든 기능은 실시간으로 검사할 수 있으며, 사후 검사 (post-inspection) 분석의 필요성을 없앨 수 있습니다. 또한, 자산은 산화물 및 입자 결함, 얇게 또는 두껍게 및 기타 서브 미크론 필름 결함을 감지 할 수 있습니다. 추가 분석을 위해 TENCOR Surfscan SP2에는 돋보기, 영역 선택, 확대/축소, 안내선 중첩 및 프로파일 측정을 포함한 많은 이미지 기능이 있습니다. 또한 색상 반전, 타임스탬프, 초점 레벨, 모서리 감지 등의 다양한 필터가 포함되어 있습니다. 각 기능은 검사 과정의 정확성과 속도를 향상시키기 위해 설계되었습니다. 전반적으로 Surfscan SP2는 반도체 제작을위한 강력하고 신뢰할 수있는 마스크 및 웨이퍼 검사 모델입니다. 업계 최고의 속도/해상도를 제공하여 다양한 이미지 분석/검사 작업을 수행하므로 품질 관리 (Quality Control) 및 운영 최적화 (Production Optimization) 를 위한 최상의 솔루션입니다.
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