판매용 중고 KLA / TENCOR Surfscan SP1-TBI #9314253

KLA/TENCOR Surfscan SP1-TBI는 칩 제조의 포토 마스크 및 웨이퍼 단계에서 결함을 감지하는 데 사용되는 자동 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. KLA Surfscan SP1-TBI는 사용자가 결함을 빠르고 정확하게 감지하고 분석 할 수 있도록 고정밀도, 종합적인 측정 솔루션을 제공합니다. 이 시스템에는 인라인 이미징 머신 (in-line imaging machine) 이 장착된 고해상도 광 장치 (optical unit) 가 포함되어 있어 가장 작은 결함을 검사할 수 있습니다. 따라서 Wafer 구성 단계에 도달하기 전에 결함을 빠르고, 정확하게 감지하고, 분석할 수 있습니다. 이 도구는 또한 상세한 마스크, 웨이퍼 검사 및 분석을 위한 고급 이미지 처리 기술 (advanced imaging technology for detailed mask and wafer inspection and analysis) 을 포함하며, 사용자는 프로세스 초기에 잠재적 결함을 확인할 수 있습니다. TENCOR Surfscan SP1-TBI는 종종 다른 기존 마스크 검사 시스템의 기능을 능가하는 광범위한 결함 감지 기능을 제공합니다. 고급 통계 패턴 인식 (advanced statistical pattern recognition) 기술, 향상된 패턴 검색/탐지 알고리즘 등 첨단 기술이 적용되어 결함을 감지할 수 있습니다. 또한 반사 된 광 영상 기술, 고급 빔 디플렉션 스캐닝 (beam-deflection scanning) 기술과 같은 고급 결함 감지 기술을 사용하여 매우 정확한 감지 및 해상도를 제공합니다. 자산은 사용자 친화적이며 기존 마스크 및 웨이퍼 검사 시스템에 쉽게 통합 할 수 있습니다. 또한 특정 응용 프로그램 및 요구 사항에 맞게 완전히 프로그래밍 가능하며 사용자 정의할 수 있습니다. 즉, 이 모델을 매우 효율적이고 다용도로 사용할 수 있으므로 특정 검사 요구사항에 맞게 장비를 조정할 수 있습니다. 또한 사용자 인터페이스 (User Interface) 는 직관적이고 사용하기 쉽고, 신속하게 작동하고 검사 및 분석 작업을 설정할 수 있습니다. 전반적으로, Surfscan SP1-TBI는 칩 제조에서 웨이퍼 제조 단계에 도달하기 전에 결함을 빠르고 정확하게 감지하고 분석 할 수있는 고급 자동화 시스템입니다. 이 장치는 포괄적인 측정 솔루션과 첨단 이미징 (advanced imaging) 기술을 제공하여 잠재적인 결함을 감지하고 분석하는 데 유용한 툴입니다.