판매용 중고 KLA / TENCOR STARlight 301 #116791

KLA/TENCOR STARlight 301은 집적 회로 및 포토 마스크 검사를 위해 설계된 강력하고 다양한 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. KLA STARlight 301 시스템에는 웨이퍼 및 마스크 검사 기능이 포함되어 있으므로 결함 감지, 부품 번호 및 레이블 식별, 통계 데이터 획득에 이상적입니다. 이 장치는 전체 범위의 샷 크기 (shot size) 및 필드 크기 (field size) 옵션을 제공하여 복잡한 기능을 검사할 때에도 높은 속도와 정확도를 제공할 수 있습니다. 고급 이미징 기능과 내장 (내장) 기능 라이브러리는 더 세밀하고 복잡한 기능의 결함 검사를 지원합니다. 또한, KLA 소프트웨어를 사용하면 검사 결과를 특정 응용 프로그램에 맞게 조정할 수 있습니다. 이 기계는 다양한 패턴, 기판 및 피쳐 크기를 수용하도록 설계되었습니다. 무료 소프트웨어 패키지는 Wafer (Wafer) 정렬 도구, 결함 평가 도구, 데이터 보고 등의 툴을 최대한 활용하는 데 필요한 툴을 제공합니다. 또한 TENCOR STARlight 301은 온라인/오프라인 프로그래밍 기능과 더불어 빠르고 안정적인 설치를 위한 고급 정렬 솔루션을 제공합니다. STARlight 301은 사용자에게 다양한 검사 기술을 제공합니다. 고속 단면화 (Cross-Sectioning) 에서 초고화질 이미징 (Ultra-High Magnification Imaging) 에 이르기까지, 이 자산은 작은 결함, 작은 15nm, 반도체 업계에서 중요한 기타 기능을 감지할 수 있습니다. TENCOR 고급 알고리즘 (advanced algorithm) 은 정확하고 신뢰할 수 있는 결과를 제공하므로 읽기 쉬운 형식으로 보고됩니다. 분석 엔진 (Analysis Engine) 을 사용하면 데이터를 다양한 형식으로 볼 수 있으며, 신속한 의사 결정 및 최종 검증 결과가 나중에 사용할 수 있도록 저장됩니다. 요약하면, KLA/TENCOR STARlight 301은 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 기능을 제공합니다. 다양한 기판 및 기능 크기에 대한 빠르고 정확한 검사를 지원하는 다양한 샷 (shot) 및 필드 (field) 크기가 특징입니다. 고급 이미징 기능 (Advanced Imaging) 과 소프트웨어 패키지 (Software Package) 를 통해 사용자는 모델의 잠재력을 극대화하는 데 필요한 도구를 제공합니다. 또한, 이 장비는 작은 결함, 15 나노미터 미만의 기능을 감지하고 온라인/오프라인 프로그래밍 기능을 제공합니다.