판매용 중고 KLA / TENCOR SP3 #293645625

KLA/TENCOR SP3 마스크 및 웨이퍼 검사 장비 (Wafer Inspection Equipment) 는 사진 분석 마스크 및 웨이퍼 표면의 결함을 감지하고 측정하도록 설계된 특수 품질 제어 시스템입니다. 이 단위는 짧은 시간 내에 웨이퍼 (wafer) 및 마스크 (mask) 서피스의 결함을 정확하고 효율적으로 식별할 수 있습니다. KLA SP-3은 고급 광학, 이미징 및 레이저 기술을 사용하여 서브 미크론 구조 및 기타 이상을 감지합니다. TENCOR SP 3 에는 결함, 크기, 위치에 대한 정보를 정확하게 파악하고 제공할 수 있는 몇 가지 기능이 있습니다. 이 기계는 최고 표면 검사, 이미지 검사, 스팟 도량형, 오버레이 도량형, 오버레이 산란계와 같은 다양한 검사를 수행 할 수 있습니다. 이 모든 검사는 마스크 (mask) 나 웨이퍼 (wafer) 의 전반적인 이미지 품질을 향상시키기 위해 함께 사용할 수 있습니다. SP3 는 정확성과 일관성을 보장하기 위해 스캔풀 (Scanpool) 이라는 혁신적인 기술과 통합되어 있습니다. 이 기술을 사용하면 웨이퍼 (wafer) 또는 마스크 (mask) 표면을 정확하고 균일하게 스캔하여 매우 정확한 측정과 더 큰 효율성을 얻을 수 있습니다. 또한, KLA SP3는 오류 수정, 초점 최적화, 자동 라인 센서 및 고급 이미지 처리 알고리즘 모음과 통합됩니다. SP-3 은 sub-micron focus optimization, error correction 및 Z-height 를 통해 고급 회선 분석을 수행할 수 있습니다. 또한, 표면 거칠기, 너비, CD 및 CD 변형을 개별적으로 측정하여 결함 분석 및 특성화가 향상되었습니다. 또한, KLA/TENCOR SP 3는 직관적인 사용자 인터페이스를 갖추고 있으며, Control Workstation 소프트웨어를 사용하면 쉽게 작동하고 사용자 정의할 수 있어 강력하고 유연한 툴이 됩니다. TENCOR SP3 는 강력하고 경제적인 툴로서, 높은 수준의 품질 제어를 보장합니다. 안정적이고 일관성 있는 검사와 정확성을 제공하므로 품질 관리 (Quality Control) 애플리케이션에 이상적인 옵션입니다. 또한 비용 절감, 프로세스 제어 향상 등의 혜택을 누릴 수 있는 '비용 절감 효과' 를 제공합니다 (영문).