판매용 중고 KLA / TENCOR SP2 #9232738

KLA/TENCOR SP2는 반도체 제조에 사용하도록 설계된 마스크 및 웨이퍼 검사 시스템입니다. KLA SP-2는 고급 Single Photon 카운팅 기술을 활용하여 마스크와 웨이퍼 모두에 대한 포괄적인 결함 감지 및 검사 솔루션을 제공합니다. TENCOR SP 2는 전용 마스크 검사 하위 시스템과 웨이퍼 기판 검사 하위 시스템으로 구성됩니다. 이러한 각 하위 시스템에는 결함 분석을위한 통합 이미징, 이미징 스캐너, 조명기, 소프트웨어가 장착되어 있습니다. 이미징 스캐너를 사용하면 동적 초점 (dynamic focus) 및 곡률 측정 기능으로 고해상도 이미징 (high resolution imaging) 을 수행할 수 있으므로 이미지 비교가 매우 정확합니다. 조명기는 가속 조명을 제공하여 최대 검사 속도를 높이고 결함 감지를 최적화합니다. 또한 SP2에는 자동 결함 감지 및 결함 분류를위한 고급 이미징 소프트웨어가 있습니다. 이러한 소프트웨어 응용 프로그램은 일반적인 유형의 프로세스 개발 (process-development) 및 결함 관련 이상과 부적절한 제작 또는 디바이스 오류로 인한 결함을 파악하도록 설계되었습니다. 또한, 이미징 소프트웨어는 SEM 및 TEM 이미징 기술과 모두 호환되므로 빠르고 정확한 결함 탐지가 가능합니다. 처리량을 최대화하기 위해 SP-2 는 다중 슬라이스, 완전 자동 스캔 기능을 제공합니다. 이 자동 스캐닝 기능을 통해 여러 개의 마스크/웨이퍼 슬라이스를 동시에 검사 및 분석할 수 있으며, 검사 속도가 크게 향상되고 마스크/웨이퍼 결함 범위가 향상되었습니다. KLA SP2에는 마스크 및 웨이퍼 특성화를위한 통합 사용자 인터페이스도 포함되어 있습니다. 이 사용자 인터페이스는 이미지를 효율적으로 시각화, 비교, 분석할 수 있게 해 주며, 이를 통해 생산용 마스크/웨이퍼 (mask/wafer) 를 신속하게 검토하고 최적화할 수 있습니다. 또한, 이 시스템에는 다양한 통계, 이미지 조작, 분석 툴 (analysis tools) 이 포함되어 있어 프로세스 제어를 극대화하고 제품의 신뢰성을 극대화할 수 있습니다. 마지막으로, TENCOR SP-2 시스템에는 결함 유형 및 크기에 대한 상세한 로깅 및 분석을 제공하는 고급 데이터 로깅 및 통계 툴이 포함되어 있습니다. 이 기능을 사용하면 결함에 대한 정확한 분석, 상세한 근본 원인 분석, 생산 프로세스의 의사 결정 향상 등의 작업을 수행할 수 있습니다. 전반적으로, TENCOR SP2는 마스크 및 웨이퍼 검사를위한 이상적인 솔루션을 제공하며, 자동화되고 효율적인 방법으로 포괄적인 결함 감지 및 특성 기능을 제공합니다.