판매용 중고 KLA / TENCOR SP2 #9138110

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ID: 9138110
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2012
Surface inspection system,12" Dual FIM /FOUP Vacuum puck handling Wafer measurement module Optimized sensitivity Throughput < 37 nm defect sensitivity on polished bare silicon Enables qualification of current Next Generation Substrates SOI, Strained SOI Strained Si UV Laser illumination Defect map Histogram with zoom IMicroview measurement capability Real-time defect classification (RTDC) Can be upgraded to SP2 XP at additional cost Microsoft XP operating system Blower box 2012 vintage.
KLA/TENCOR SP2는 마스크 및 웨이퍼 품질을 평가하기 위해 특별히 설계된 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 최첨단 시스템은 독자적인 광학 이미징 (optical imaging), 결함 감지 (defect detection) 및 고급 분석 (advanced analysics) 의 조합을 활용하여 포괄적이고 정확한 검사를 보장합니다. KLA SP-2는 미세 회선 이미지 평가 (Fine Line Image Assessment), 결함 감지 (Defect Detections), 모든 최첨단 리소그래피 기법 내에 내장된 다수의 센서를 활용하는 등 다양한 자동 작업을 수행할 수 있습니다. 필름 레이어의 두께를 분석하고, 장치 피쳐의 임계 치수를 파악하고, 기타 중요한 도량형 (metrology) 기능을 수행할 수 있습니다. 또한, 이 장치는 프로세스 결과의 균일성을 모니터링하고 광학적으로 부드러운 서피스 (optically smooth surface) 로 부품의 품질을 평가할 수 있습니다. TENCOR SP 2 (TENCOR SP 2) 는 고급 패턴 인식 기능을 제공하여 사용자가 취약한 결함을 식별하기 위한 효과적이고 효율적인 수단을 제공합니다. 기계가 오염 물질, 결함 및 기타 물질 불규칙성을 감지 할 수 있으며, 부품 품질 (Part Quality) 이 부족하여 서비스 가능한 구성 요소를 줄일 수 있습니다. KLA/TENCOR SP 2 툴은 심층적인 데이터 수집 기능을 제공하여 프로세스 수행에 대한 실시간 그림을 제공합니다. 또한, 자산은 결함 확장성 (Defect Scalability) 분석을 촉진하여 수율 (Yield Rate) 의 향상을 위해 프로세스 추세를 평가할 수 있습니다. 수집된 모든 데이터는 저장되며, 쉽게 검색할 수 있으므로 사용자가 데이터 기반 (data-driven) 의사 결정을 효과적으로 정확하게 수행할 수 있습니다. SP-2는 혁신적인 마스크 및 웨이퍼 검사 모델로 널리 알려져 있습니다. 독자적인 광학 이미징 (Optical Imaging) 및 고급 결함 감지 (Advanced Defect Detection) 기능을 활용하여 사용자에게 프로세스 결과에 대한 정확하고 포괄적인 개요를 제공할 수 있습니다. 생산성 향상, 수익률 증대를 위한 귀중한 도구다.
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