판매용 중고 KLA / TENCOR SP2 XP #9195049

KLA/TENCOR SP2 XP는 마스크 및 웨이퍼 검사 장비로, 뛰어난 광학 성능 및 업계 최고의 측정 정확도를 제공하여 높은 정확도의 연구, 개발 및 제조 사용을 지원합니다. 최첨단 옵티컬 설계는 반도체 마스크 및 웨이퍼 검사를위한 뛰어난 이미지 캡처 및 고급 결함 감지 기능을 제공합니다. 또한 직관적인 운영자 인터페이스 (Operator Interface) 와 자동화된 프로그램 (Automated Program) 을 제공하여 빠르고 반복 가능한 결과와 사용 편이성을 제공합니다. KLA SP2 XP 시스템은 탁월한 광학 성능 및 검사 정확성을 위해 특별히 설계되었으며, 유사한 시스템에 비해 전체 심도 (depth of field lumination) 및 10배 (field of view) 의 넓은 시야를 갖춘 고해상도 이미징을 제공합니다. 이를 통해 사용자는 잘못된 양성을 피하면서 구조의 매우 작은 결함과 변화를 감지 할 수 있습니다. TENCOR SP2-XP에는 533nm 솔리드 스테이트 레이저, 전체 웨이퍼를 통해 빠르게 움직이는 빔, 실시간 이미지 캡처를위한 CCD 검출기로 구성된 통합 스캐닝 장치가 있습니다. 또한 상태 평가, 결함 저조도 (defect low contrast detection), 결함 감지 (defect detection) 를 위한 포괄적인 소프트웨어 툴이 포함되어 있어, 매우 작고 보기 어려운 결함을 감지할 수 있는 기능을 제공합니다. SP2-XP는 반도체 웨이퍼 및 마스크 검사에 가장 까다로운 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. 스캔 (scan) 및 비스캔 (non-scan) 모드 모두에서 나노미터 레벨 스테이지 제어를 위한 높은 정확도 스테이지 머신과 초고속 스캔 균일성과 정밀도를 위한 고급 모터 컨트롤을 갖추고 있습니다. 이 툴은 직관적인 GUI 및 자동화된 프로그램과 함께 대화형 사용자 환경 (Interactive User Experience) 을 제공하여 결함을 빠르고 쉽게 감지하고 분리할 수 있습니다. 실시간 결함 탐지는 인스캔-논스톱 (in-scan-nonstop) 및 자동 감지-논스톱 (auto-detect-nonstop) 의 두 가지 모드로 수행되므로 더욱 뛰어난 유연성과 시간 절약이 가능합니다. KLA/TENCOR SP2-XP는 웨이퍼 및 마스크 패턴 검사 프로세스를 단순화하는 비용 효율적인 솔루션입니다. 탁월한 성능과 종합적인 기능을 갖춘 '마스크 (mask)' 와 '웨이퍼 (wafer)' 의 연구, 개발 및 제조를 위한 최적의 선택입니다.