판매용 중고 KLA / TENCOR SP1-TBI #9037347

KLA/TENCOR SP1-TBI 마스크 및 웨이퍼 검사 장비는 고속 포토 마스크 생산을 위해 설계된 고급 웨이퍼 및 마스크 검사 시스템입니다. 이 장치는 단일 플랫폼에서 2 개의 독립적 인 검사 채널을 사용하여 최대 12MHz의 고품질 웨이퍼 (wafer) 및 마스크 검사 (mask inspection) 를 제공합니다. KLA SP1T-BI는 6 인치 또는 8 인치 포토 마스크 웨이퍼의 복잡한 패턴에 대한 결함 특성 및 패턴 확인을 위해 설계되었습니다. 이 기계는 포토 마스크 웨이퍼의 패턴을 캡처하고 분석하기 위해 고해상도 카메라와 광학 (optic) 을 장착했다. 이 도구에는 마스크 표면의 XY 스캔과 2 축 기울기 단계 (two-axis tilt stage) 를 허용하는 스테이지 동작 에셋도 있습니다. 이 모델은 또한 작은 피치 라인 결함, 에칭 결함, mis-hits, mis-match, layer mis-alignments, unpatterned checkerboard pattern, etching defects 등을 포함한 다양한 유형의 결함을 감지 할 수 있습니다. 장비는 관련 웨이퍼 결함을 정확하게 감지하고 웨이퍼 (wafer) 모양을 인식하여 검사한 것을 식별할 수 있습니다. TENCOR SP1 TBI 장치는 HPC (High Performance Compute) 시스템을 사용하여 여러 이미지를 동시에 처리하고 리소그래픽 오류를 신속하게 식별할 수 있습니다. 고속 스캐닝 및 검사는 빠른 스캐닝 매핑 및 데이터 처리로 구동됩니다. 이 기계는 자동화된 결함 분류 (categorization) 및 등급 지정 (grading) 프로세스를 통해 상세한 보고서를 신속하게 생성합니다. TENCOR SP1-TBI 마스크 및 웨이퍼 검사 도구는 고급 마스크 생산에 이상적인 솔루션입니다. 모든 수동 스캐닝 프로세스와 비교하여 향상된 처리량을 가능하게 함으로써 안정성, 정확성, 고속 검사를 개선했습니다 (영문). 이 자산에는 운영자에게 쉽게 사용할 수있는 사용자 친화적 인 인터페이스가 있습니다. 또한, 이 모델은 정교한 소프트웨어를 사용하여 프로세스 배치를 추적, 저장, 분류 및 분석합니다. 이 장비는 다양한 유형의 단계/검토 작업에 대한 상세한 보고 기능을 제공하여 효과적인 추적 능력을 제공합니다. KLA/TENCOR SP1 TBI는 탁월한 정확도와 탁월한 속도로 전반적인 성능을 제공합니다. 이 시스템은 가장 까다로운 운영 프로세스의 요구 사항을 충족하여, 안정적인 비용 효율적인 생산성을 보장합니다.