판매용 중고 KLA / TENCOR SP1-DLS #9375212

KLA/TENCOR SP1-DLS는 프로세스 제어 및 수율 관리 솔루션의 글로벌 제공 업체 인 KLA에서 개발 한 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 반도체 및 전자 산업의 제조업체가 마스크 및 웨이퍼 디자인의 차원 충실도 (dimensional fidelity) 및 픽셀 (pixel) 정확도를 빠르고 정확하게 검사할 수 있도록 설계되었습니다. 이 장치는 고급 이미징 및 패턴 인식 (pattern recognition) 기술을 활용하여 모든 해상도와 종횡비로 마스크 및 웨이퍼 설계를 스캔, 분석합니다. KLA SP1 DLS는 조명과 도량형 제어를 하나의 단위로 결합하여 마스크 및 웨이퍼 표면을 정확하게 검사하는 자동 기계입니다. 이 제품은 빠르고 안정적인 데이터 비교 및 검증 (VTL 솔루션) 기능을 제공하므로, 이상이나 결함을 신속하게 파악하고 운영 수익률에 미치는 영향을 분석할 수 있습니다. 이 도구에는 여러 정렬 모드와 3D 지형 (3D topography) 기능이 포함되어 있으며, 사용자는 웨이퍼 및 마스크의 구조를 두 방향으로 측정하고 특성화할 수 있습니다. 하나는 X-Y 평면에 있고 하나는 Z 평면에 있습니다. 에셋은 고해상도 디지털 이미징 장치와 고해상도 스캐너 (scanner) 를 활용하여 마스크 및 웨이퍼 표면의 이미지 파일을 수집하고 표시합니다. 이 모델은 최대 300 나노 미터의 해상도에서 이미지 캡처가 가능합니다. 고급 기능 스캐닝 (Fine Feature Scanning) 에 사용되는 시스템에 직접 내장된 미니 스코프 (Miniscope) 장비에 의해 데이터 정확도가 더욱 향상됩니다. 이 장치에는 이미지 처리 및 분석을위한 고급 소프트웨어 도구 (예: 3 차원에서 웨이퍼 또는 마스크의 높이, 너비 및 기타 기능을 측정 할 수있는 3D 지형 도구) 가 장착되어 있습니다. 이 기계는 또한 결함 감지 (Defect Detection) 및 비교 도구 (Comparison Tool) 를 포함하여 다른 마스크나 웨이퍼의 이미지를 비교하여 크기 차이를 감지하고 모니터링하는 데 사용할 수 있습니다. 이 툴은 GDS-II, Oasis 등의 다양한 업계 표준 데이터 형식을 지원합니다. 정교한 이미징 및 분석 기능 외에도, TENCOR SP 1-DLS 자산은 다양한 수율 분석 및 프로세스 제어 기능도 제공합니다. 이 모델에는 형상 검사 리포트 빌더 (geometry inspection report builder) 가 모두 포함되어 있으며, 이 리포터는 결함 크기와 위치에 대한 리포트와 프로세스 창 최적화 도구 (각 제품에 대한 프로세스 창 설정 분석 및 조정) 를 생성할 수 있습니다. 이 장비는 또한 완벽한 결함 검토/추적 기능과 마스크/웨이퍼 비교를 위한 사용자정의 공차 매트릭스 (user-defined tolerance matrix) 를 제공합니다. 전반적으로 KLA/TENCOR SP 1-DLS는 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 툴로, 제조업체에 마스크 및 웨이퍼 설계를 빠르고 정확하게 분석 할 수있는 수단을 제공합니다. 다양한 이미지 처리/분석 툴 (Imaging and Analysis Tools) 과 수율 분석/프로세스 제어 기능을 통해 제조업체가 생산량을 최적화하고 전반적인 프로세스 성능을 향상시킬 수 있습니다.