판매용 중고 KLA / TENCOR / ICOS CI-T120 #293794311

KLA/TENCOR/ICOS CI-T120은 강력한 마스크 및 웨이퍼 검사 장비로, 결함 관리를 개선하고 반도체 제조 산업의 성능을 산출하도록 설계되었습니다. 이 시스템은 결함의 심층적 이미징을 위한 고해상도 광학 단계 (optical stage) 를 갖추고 있으며, 이는 전체 웨이퍼 (wafer) 를 최소 60 초 안에 스캔할 수 있습니다. 동시에, 이 장치에는 자동화된 결함 분류 알고리즘 (automated defect classification algorithm) 이 장착되어 있어, 최소한의 사용자 개입으로 결함을 빠르고 정확하게 파악하고 정량화할 수 있습니다. 또한, KLA CI T120 (in-situ calibration machine) 은 최적의 성능 및 결과를 보장하기 위해 in-situ 보정기를 갖추고 있으며, 이를 통해 사용자는 변화하는 프로세스 조건에 맞게 즉석에서 공구의 민감도를 조정할 수 있습니다. ICOS CI T 120의 기능 조합은 고급 (advanced) 및 루틴 (routine) 이미징 어플리케이션을 모두 지원하는 강력한 도구였습니다. 에셋의 정교한 알고리즘을 사용하면 결합 패드 (bonding pad) 및 코너 식별 (corner identification) 과 같은 고급 피쳐를 사용할 수 있습니다. 이 결과는 추가 피쳐 추출에 사용됩니다. 이 고급 이미징 수준은 패턴 일치 분석 (pattern match analysis) 및 선 너비 측정 (line width measurement) 과 같은 일상적인 응용 프로그램에도 유용합니다. ICOS CI-T120의 소프트웨어 인터페이스는 매우 직관적이고 간단하며, 경험이없는 사용자에게도 적합합니다. 직관적인 메뉴 계층 (hierarchy) 을 통해 소프트웨어의 여러 기능에 쉽게 탐색할 수 있으며, 고급 결함 분류 알고리즘 (advanced defect classification algorithms) 과 현장 (in-situ) 보정 모델을 통해 검사 프로세스를 완벽하게 제어할 수 있습니다. 전반적으로 CI T120 Mask & Wafer Inspection Equipment는 고급 이미징 어플리케이션과 자동 결함 분류가 필요한 반도체 제조업체에 이상적인 솔루션입니다. 정교한 알고리즘과 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 를 통해 고급 어플리케이션과 일상적인 어플리케이션을 모두 지원하는 강력한 툴이 됩니다. 즉, 최소한의 연산자 개입 (operator intervention) 을 통해 결함을 빠르고 정확하게 파악하고 정량화할 수 있습니다.