판매용 중고 KLA / TENCOR / HAMAMATSU R1617HA #200233

KLA/TENCOR/HAMAMATSU R1617HA는 패턴 웨이퍼에서 이전에 감지 할 수없는 결함과 오염을 감지하도록 설계된 고성능 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 여러 검사 기술을 결합하여 사용자에게 생산 과정에서 가장 뛰어난 유연성과 정확성을 제공합니다 (영문). 이 장치는 photomask 검사, 웨이퍼 검사, critical dimension (CD) 측정, 마스크 (mask) 에서 완료된 웨이퍼 (wafer) 까지 여러 수준의 제조 프로세스에 걸친 결함을 감지하는 전기 테스트 등 전체 검사 기술을 제공합니다. 첫째, 기계는 고급 마스크 검사 기능을 제공합니다. 이 도구는 DFL (Dark Field Light) 및 BFL (Bright Field Light) 이미징 기술을 사용하여 일반 조명에서 보이거나 보이지 않는 Photomask의 결함을 구별 할 수 있습니다. 또한, 백 사이드 검사 (back side inspection) 는 마스크의 반대편에서 미묘한 결함을 식별하여 기존의 자산 설계에서 적용 범위를 확장합니다. 다음으로 모델은 정확한 웨이퍼 검사 및 분석을 제공합니다. Critical Dimension (CD) 검사는 설계 패턴의 미세한 세부 사항을 감지하고 측정하는 반면, 전송 다크 필드 (transmission dark field), 밝은 필드 (bright field) 및 스펙트럼 이미징 (spectral imaging) 과 같은 검사 기술의 배열은 장비를 웨이퍼 표면에서 광범위한 결함을 감지 할 수 있습니다. 전기 테스트의 경우, 시스템은 IC (Integrated Circuit) 테스트 기능을 가지고 있으며, 제품 웨이퍼에 결함 밀도가 낮습니다. 이러한 기능 외에도, 이 장치는 다양한 서브 미크론 (sub-micron) 기능과 광학 박막 구조에 대해 특별히 설계된 구성 요소를 사용하며, 광범위한 응용 프로그램에 대한 정확성을 지원합니다. 또한, 이 기계는 처리량을 손상시키지 않고 결함을 감지 할 수 있도록 고급 광학 장치 (optics and illumination source) 로 설계되었습니다. 최대 신뢰성과 성능을 보장하기 위해 KLA R1617HA는 고급 EM (Electromagnetic) 테스트, 진동 및 온도 조절을 통해 설계 및 제조되었으며, 강력한 하드웨어/소프트웨어 구성 요소 및 도구 관리 프로세스를 사용합니다. 자산은 또한 완전히 확장이 가능하므로, 다양한 생산 요구 사항에 대한 다용도 솔루션이 됩니다. 요약하면, TENCOR R1617HA는 강력한 마스크 및 웨이퍼 검사 모델로, 광범위한 제조 프로세스에 대한 정확한 결함 감지, 정확한 웨이퍼 CD 측정, 신뢰할 수있는 전기 테스트를 제공합니다. 정교한 디자인과 엄격한 품질 관리 (Quality Control) 프로세스를 결합한 이 장비는 고급 생산 요구 사항을 충족하는 안정적이고 경제적인 솔루션을 제공합니다.