판매용 중고 KLA / TENCOR ES35D #9236716

KLA/TENCOR ES35D Mask & Wafer Inspection 장비는 반도체 산업의 엄격한 프로세스 제어 요구 사항을 해결하기 위해 고급 자동 광학 검사 기술을 제공합니다. 고급검사기술을 활용해 웨이퍼와 마스크 (마스크) 모두 다양한 결함을 감지할 수 있도록 설계된 자동검사시스템 (APS) 이다. KLA ES35D 장치는 여러 고급/자동 광 검사 기술을 활용하여 뛰어난 정확성과 속도를 제공합니다. 이러한 기술에는 자동 초점, 이미징 프로세스 및 고급 결함 분류 알고리즘이 포함됩니다. 이 기계는 사용자 정의 설계 광학 시스템과 특수 소프트웨어 (software) 를 활용하여 효율적이고 정확한 결함 식별 및 분석을 수행합니다. TENCOR ES35D 도구는 입자 관련 결함, 표면 결함, 공백 (void) 을 포함하여 광범위한 결함을 감지 할 수 있습니다. 또한, 자산은 마스크와 웨이퍼 모두에서 검사를 수행 할 수 있습니다. 이 모델은 고급 웨이퍼 매핑 (wafer mapping) 장비를 사용하여 웨이퍼 서피스에서 에칭 된 레티클을 읽고 분석하고 가능한 결함의 위치를 정의합니다. ES35D Mask & Wafer Inspection 시스템은 검사 과정에서 뛰어난 처리량을 제공하도록 설계되었습니다. 이 장치는 고급 초점 (advanced focus) 및 이미징 (imaging) 알고리즘을 활용하여 여러 영역 사이를 빠르게 이동하여 최적의 적용 범위를 확보할 수 있습니다. 또한, 자동화된 기계 (automated machine) 명령을 통해 검사 프로세스를 완전히 자동화하여 생산성을 향상시키고 비용을 절감할 수 있습니다. KLA/TENCOR ES35D 도구는 쉽고 직관적인 작업을 위해 설계된 다양한 사용자 인터페이스를 갖추고 있습니다. 사용자 인터페이스 (User Interface) 는 사용이 쉽고 이해하기 쉽고, 사용자에게 자산 (Asset) 의 기능과 기능에 액세스할 수 있는 직관적인 방법을 제공하도록 설계되었습니다. 또한 '동적 비교 (dynamic comparison)' 기능을 통해 여러 이미지를 신속하게 비교하고 데이터 변경 사항을 확인할 수 있습니다. 이 기능은 시간이 지남에 따라 제품 품질 차이를 쉽게 감지하는 데 사용될 수 있습니다. 결론적으로 KLA ES35D Mask & Wafer Inspection 장비는 특정 Mask & Wafer 환경에 최적화된 강력하고 안정적인 자동 광 검사 솔루션입니다. 정교한 알고리즘과 자동화된 광검사 (optical inspection) 기술을 활용한 이 시스템은 간편한 운영을 위한 직관적인 사용자 인터페이스를 제공하면서, 고급적이고 효율적인 결함 감지 및 분석 기능을 제공합니다.