판매용 중고 KLA / TENCOR eS31 #293606035

KLA/TENCOR eS31은 반도체 장치 생산을위한 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 전체 Wafer 의 디바이스 특성에 대한 Wafer 수준의 결함 검사 및 모니터링 기능을 제공합니다. KLA eS31은 웨이퍼 표면에서 미세 구조, 석판 오류, 처리 단계, 결함 및 입자 오염을 감지하는 2D 및 3D 이미징 기능을 모두 제공합니다. TENCOR eS31 (TENCOR eS31) 은 시간당 최대 600 와퍼의 높은 처리량으로 빠르고 정확한 결함 검색을 수행할 수 있도록 설계되었습니다. KLA TrueFouchTM 3D 이미징 기술과 최적화된 소스 타겟 구성을 결합하여 여러 마스크 및 웨이퍼 레이어에 걸쳐 있는 장치 결함을 캡처합니다. 이렇게 하면 시스템이 결함을 정확하게 감지할 수 있습니다. 즉, 다른 레이어에서 발생할 때도 마찬가지입니다. 이 장치의 고감도 (high sensitivity) 를 통해 하위 세그먼트 및 세그먼트 결함을 감지할 수 있으며 edge-to-edge 결함 검색을 사용할 수 있습니다. 기계에서 사용하는 알고리즘을 사용하면 마스크 (mask) 와 웨이퍼 (wafer) 결함을 모두 감지할 수 있으며, 수집된 데이터를 사용하여 프로세스 성능 향상을 위한 사전/사후 (pre-patterning) 결함 피드백을 모두 제공할 수 있습니다. 이 도구는 또한 독특한 웨이퍼 매핑 (wafer mapping) 기술을 특징으로하며, 이를 통해 전체 웨이퍼에서 개별 웨이퍼를 식별하고 분석 할 수 있습니다. 이로써 각기 다른 웨이퍼 (wafer) 간의 장애 적용 범위와 상관 관계가 향상되어 운영자가 보다 쉽게 문제 영역을 식별할 수 있습니다. ES31 은 또한 자동 웨이퍼 처리 (automated wafer handling) 자산을 제공하여 한 번에 최대 4 개의 웨이퍼를 처리할 수 있습니다. 이 모델은 또한 현장 측정 플랫폼 (in-situ measurement platform) 을 통합하여 실시간 데이터와 분석을 제공하여 적절한 프로세스 최적화 및 문제 해결을 지원합니다. KLA/TENCOR eS31은 마스크 및 웨이퍼 검사를 위한 원스톱 솔루션으로, 빠르고, 정확하며, 포괄적인 결함 감지 기능을 제공합니다. 자동 웨이퍼 처리 (automated wafer handling) 기능을 통해 대규모 웨이퍼 배치를 신속하게 검사할 수 있으며, 종합적인 데이터 분석 (data analysis) 기능을 통해 상세한 결함 분석 및 보고 기능을 제공합니다. 다양한 고급 이미징 및 데이터 수집 기능을 통합하여, KLA eS31 은 안정적이고 정확한 결함 감지, 효율적인 장비 운영, 향상된 프로세스/제품 성능을 제공합니다.