판매용 중고 KLA / TENCOR es20xp #9137120

KLA/TENCOR es20xp는 반도체 생산의 결함 및 프로세스 제어 문제를 감지하기 위해 설계된 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 최고급, 고해상도 하드웨어, 고급 소프트웨어 알고리즘을 사용하여 반도체 마스크, 웨이퍼를 빠른 속도와 정확도로 검사합니다. 구성 요소에는 하드웨어 검사 장치, CAI (Computer-Assisted Inspection Machine) 및 운영자 인터페이스가 포함됩니다. 하드웨어 도구는 이미징 및 결함 검사의 두 가지 주요 기능을 제공합니다. 자산의 첫 번째 단계는 이미징 (Imaging) 으로, 웨이퍼 또는 마스크의 고해상도 그림을 캡처합니다. 그런 다음 이 그림은 원하는 피쳐 세트 (feature set) 와 식별되고 비교되는 피쳐 패턴을 생성하는 데 사용됩니다. 결함이 발견되면 모델 (Model) 은 이미지의 결함을 복제하여 추가 분석을 수행합니다. 장비의 두 번째 단계는 결함 검사입니다. 검사 과정은 일반적으로 두 단계로 구성됩니다. 먼저, 시스템이 서피스 스캔을 수행한 다음 웨이퍼 (wafer) 또는 마스크 패턴에서 이상을 찾습니다. 불일치가 확인되면, 장치는 이것을 결함으로 표시하고 심각도를 추가로 평가합니다. CAI는 검사 프로그램을 저장하고, 반복되는 작업을 자동화하고, 데이터를 분석하는 기능을 제공합니다. 이 기계 는 검사 를 완료 하는 데 걸리는 시간 을 줄이고, 정확도 와 구체성 을 향상 시키기 위해 설계 되었다. 그렇다. "깨어라!" 여기에는 패턴 검색/일치 알고리즘, 통계 프로세스 제어 소프트웨어 및 데이터베이스 통합 도구가 포함됩니다. 마지막으로, 운영자 인터페이스는 쉬운 기동성과 향상된 사용 편의성을 위해 설계되었습니다. 이 인터페이스를 사용하면 사용자가 신속하게 도구를 프로그래밍하고, 이미지를 검토하고, 검사 결과를 확인할 수 있습니다. 또한 자산을 특정 응용프로그램 또는 검사 목표에 맞게 최적화할 수 있습니다. 결국, KLA ES20 XP 모델은 여러 구성 요소를 갖춘 정교하고 효율적인 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 고해상도 하드웨어, 고급 소프트웨어 알고리즘, 사용자 친화적 인터페이스 (user-friendly interface) 를 통해 반도체 제조 공정의 결함을 정확하고 신속하게 감지하고 프로세스를 제어할 수 있습니다.