판매용 중고 KLA / TENCOR EFEM #9276743

KLA/TENCOR EFEM은 반도체 장치 제조에 사용되는 감광 석영 마스크에 대한 생산 검사 요구 사항을 처리하도록 설계된 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 제품은 밝은 필드, 어두운 필드 및 DPD (Digital Path Difference) 이미징과 같은 독점적 인 고급 검사 기술을 사용하여 마스크 및 웨이퍼의 입자 및 이물질과 같은 결함을 식별하여 둘 사이의 미묘한 차이를 정확하게 측정 할 수 있습니다. 클라 EFEM (KLA EFEM) 시스템은 가까운 UV 광원과 목표, 돋보기, 핀홀, 신비 마커 등 다양한 광학 인터페이스로 구성될 수 있으며, 미세한 해상도로 최대 25cm 직경의 마스크와 웨이퍼를 검사 할 수 있습니다. 또한 결함 인식 (defect recognition) 및 결함 표시 (defect marking) 기능이 포함되어 있어 신속한 결함 평가 및 분석이 가능합니다. 또한, 이 장치에는 최적의 검사 밝기 (Optimum Inspection Brightness) 선택, 자동 포커싱 (Automatic Focusing), 결함 이미지 표시 (Display) 등 다양한 작업을 수행할 수 있는 유연한 소프트웨어 패키지가 포함되어 있습니다. TENCOR EFEM 기계는 비용을 절감하면서 높은 정확도를 제공하도록 설계되었습니다. 각 개별 결함에 대한 크기, 모양, 위치 정보를 캡처하기 위한 고속 광학 (optical) 분광계와 결합한 다중기술 (multiple technologies) 을 통해 검사 기능이 더욱 향상되었습니다. 또한, 자동 (automated) 툴로 구성할 수 있으며, 결함 데이터를 추가로 처리하여 거짓 (false) 및 실제 (real) 결함을 분리하여 운영 데이터의 가장 효과적인 흐름을 가능하게 합니다. EFEM 은 다이 투 다이 (Die-to-Die) 검사 기능, 다용도 및 사용자 친화적 자산, 고급 이미지 프로세싱 기능 등을 제공하여 최고의 세부 사항까지 결함을 자동으로 분석할 수 있습니다. 단일 웨이퍼 (single-wafer) 및 양면 웨이퍼 (double-sided wafer) 에 대한 검사를 수행할 수 있으며, 광범위한 특수 교정 및 교정 필드 크기로 구성할 수 있습니다. 이 모델은 또한 에칭 (etching) 및 도량형 시스템 (metrology system) 과 같은 다른 제조 장비와의 통합을 통해 자동 비교 및 결함 인식이 가능합니다. 전반적으로 KLA/TENCOR EFEM은 비용 및 노력을 최소화하면서 정확도가 높은 결과를 제공하도록 설계된 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 최대 25 cm 직경의 다양한 쿼츠 마스크 (quartz mask) 와 웨이퍼 (wafer) 를 검사할 수 있으며, 결함을 신속하게 분석할 수 있는 다양한 기능이 내장되어 있습니다.