판매용 중고 KLA / TENCOR eDR-5210S #9269303

KLA/TENCOR eDR-5210S는 처리량이 많은 도량형 애플리케이션을 위해 설계된 완전 자동 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. KLA eDR-5210S는 마스크 및 웨이퍼를 검사하기 위해 탁월한 광학 성능과 자동화된 결함 감지를 제공합니다. 최대 20 메가 픽셀의 이미지 해상도로 3.5 나노미터 크기의 패턴을 검사할 수 있습니다. 이 장치에는 큰 시야와 매우 높은 수치 조리개 (aperture) 를 제공하는 자동 멀티 스테이지 렌즈 머신 (multi-stage lens machine) 이 있습니다. 이렇게 하면 마스크 및 웨이퍼에 결함이 있는지 검사할 때 높은 수준의 정확도와 해상도 (resolution) 를 얻을 수 있습니다. TENCOR eDR-5210S는 결함을 감지하기 위해 조정 가능한 파장이 250nm에서 1750nm인 600W 고강도 LED 광원을 사용합니다. 이 도구는 여러 개의 동시 노출 (exposure) 과 고급 이미지 처리 (advanced image processing) 알고리즘을 사용하여 매우 낮은 조명 레벨에서도 결함을 감지합니다. 자동 검사 프로세스에는 마스크 및 웨이퍼 포지셔닝, 광학 측정, 이미지 처리, 데이터 분석 (Data Analysis) 이 포함되므로 검사에 필요한 전체 시간이 단축됩니다. EDR-5210S 는 소음 수준에 대한 낮은 신호 (signal to noise level) 에서도 빠르고 신뢰할 수 있는 검사를 수행할 수 있도록 설계되었습니다. 강력한 조명 기능과 결합된 패턴 인식 (pattern recognition) 및 Q 팩터 검사 (Q-factor inspection) 와 같은 이미지 처리 알고리즘을 통해 에셋은 하위 미크론 결함 및 마스크와 웨이퍼에 대한 기타 결함을 신속하게 감지 할 수 있습니다. 이 모델에는 간편한 설치 및 작동을 위한 직관적인 인터페이스가 포함된 사용자 친화적 GUI 가 포함되어 있습니다. KLA/TENCOR eDR-5210S는 결함 없는 마스크 및 웨이퍼를 보장하기 위해 높은 처리량 도량형을 제공하도록 설계된 다재다능한 검사 장비입니다. 이 시스템은 매우 높은 해상도와 정확도로 3.5 나노미터까지 결함을 감지 할 수 있습니다. 고급 이미지 처리 (advanced image processing) 알고리즘과 강력한 조명 기능이 결합된 자동 검사 (automated inspection) 프로세스를 통해 빠르고 신뢰할 수 있는 결함 탐지가 가능합니다. 사용자 친화적 인 GUI 인터페이스를 통해 장치의 설치와 작동을 쉽고 간단하게 수행할 수 있습니다.