판매용 중고 KLA / TENCOR eDR-5210 #9397336

KLA/TENCOR eDR-5210 마스크 및 웨이퍼 검사 장비는 고급 포토 마스크 및 웨이퍼 패턴에 대한 고해상도 결함 감지 및 심층 분석을 제공하기 위해 설계된 고급 도량형 플랫폼입니다. 이 시스템은 밝은 필드 및 어두운 필드 조명에서 모두 작업 할 수있는 멀티 모드 시스템으로, 명암비가 높고 표준 상업용 다크 필드, 링 필드, 선형 편광 모드 (linear polarizing mode) 를 사용하여 이미징을 구현합니다. 전용 알고리즘 함수는 photomask, reticle 및 wafer 패턴의 원활한 결함 감지 및 분석을 촉진합니다. 이 장치에는 50cm 최대 필드 크기와 0.05 ½ m 이미징 해상도 및 1 ½ m 검사 스텝 크기가 있으며, 시장에서 가장 높은 해상도 시스템 중 하나입니다. 능동형 자동 초점 기능, 자동 단계 기계, 고급 조명 시스템, 자동 마스크 검색 및 처리 기능이 장착되어 있습니다. 또한, 이 도구는 고급 CMOS 이미징 검출기를 자랑하여 작동이 빠르고 샷 노이즈 성능이 향상됩니다. KLA eDR-5210은 또한 다양한 종류의 결함을 감지하기 위해 이미지를 분석하는 데 도움이되는 강력한 고급 AI 기반 알고리즘을 포함합니다. 또한, 자산은 다양한 고급 분석/보고 툴을 제공하여 결함 데이터를 빠르고 쉽게 시각화, 문서화할 수 있습니다. 전반적으로 TENCOR EDR 5210 마스크 및 웨이퍼 검사 모델은 포토 마스크 및 웨이퍼 패턴을 검사하기위한 포괄적 인 솔루션을 제공합니다. 강력한 알고리즘과 고급 이미징 해상도 (Advanced Imaging Resolution) 의 조합은 결함 감지 및 분석을위한 견고하고 안정적인 장비를 보장합니다.