판매용 중고 KLA / TENCOR eDR-5210 #9075254

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ID: 9075254
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2010
SEM-EDX System, 12" With BLIZ pedestal E-Beam review station Laser 2010 vintage.
KLA/TENCOR eDR-5210은 고급 반도체 장치의 대용량 생산에 이상적인 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. KLA eDR-5210 은 안정적이고 효율적인 방법으로 빠르고 정확한 결함 검사를 수행할 수 있도록 설계되었습니다. 새로운 혁신적인 OWS (Optical Wafer Scanning) 기술로이 시스템은 각 장치의 상단 및 하단 표면을 검사하여 연구원 및 제조 인력에 대한 향상된 수율 및 프로세스 제어를 제공합니다. TENCOR EDR 5210은 누락 된 기능, 반바지, 미립자 오염 등 다양한 유형의 결함을 감지 할 수 있습니다. 이 장치에는 고품질 옵틱 및 조명, 정밀 스캔 메커니즘, 디지털 처리 하드웨어가 장착되어 있습니다. 유효한 결함과 잘못된 결함을 구별 할 수 있지만, 최상위 결함 검토는 과학자와 엔지니어가 놀라운 정확도로 미세한 (minute) 기능을 식별 할 수 있도록 합니다. KLA/TENCOR EDR 5210은 또한 정밀 회전 기능을 자랑하며, 이를 통해 각도를 정확하게 측정하고 기울기 오류를 보상 할 수 있습니다. 보다 복잡한 구조 (예: 마스크 레이어 불일치 및 중요한 리소그래피 변형) 를 검사할 때 이러한 중요한 정확도가 필요합니다. 강력한 EDR 5210도 사용자 정의가 가능합니다. 하드웨어/소프트웨어 업그레이드를 비롯하여 다양한 하드웨어 구성요소로 구성하여 개별 성능 요구 사항을 충족할 수 있습니다 (영문). 또한 KLA EDR 5210에는 엔드포인트 분석, 스캔 평균, 반복 스캔 등의 자동 작동 모드가 포함되어 있어 처리율을 최적화하고 수율을 늘릴 수 있습니다. 또한 고급 장애 분석 (fault analysis) 기능을 통해 각 디바이스의 성능을 프로파일링하고 디바이스 성능 저하 원인을 파악할 수 있습니다. EDR-5210 기계는 가장 복잡한 반도체 장치를 검사하기 위한 비용 효율적인 솔루션을 제공하도록 설계되었습니다. TENCOR eDR-5210은 정확한 옵티컬 기술, 빠른 스캔 속도 (Fast Scan Rate), 사용자 지정 기능이 뛰어난 설계로, 제품의 품질과 안정성을 보장하고자 하는 모든 반도체 제조업체에 적합한 솔루션입니다.
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