판매용 중고 KLA / TENCOR eDR-5210 #293755074

KLA/TENCOR eDR-5210은 포토 마스크의 고정밀 분석을 위해 설계된 마스크 및 웨이퍼 검사 장비로, 0.08 미크론 정도의 작은 기능을 측정합니다. 이 시스템은 레티클과 웨이퍼를 동시에 검사 할 수 있으며, 산란법 (scatterometry) 과 광학 현미경 (optical microscopy) 과 같은 고급 광학 기술을 사용하여 입자를 감지하고 식별합니다. 광섬유 기반 장치는 작은 배율에서도 매우 상세한 마스크 이미지를 생성 할 수 있습니다. 또한, 트렌치, 비아, 간격과 같은 중요한 패턴의 고해상도 산란 측정을 생성 할 수 있습니다. 이 기계는 또한 처리 된 웨이퍼 (wafer) 에 대한 결함 검사를 수행할 수 있으며, 사용자가 표면 및 심층 결함을 모두 식별하고 정량화할 수 있도록 도와줍니다. KLA eDR-5210은 또한 쿼츠 (quartz) 에서 실리콘 (silicon) 에 이르기까지 다양한 유형의 재료를 분석 할 수 있으며, 큰 피치와 미세 피치 마스크 모두에 대해 4 배의 망막 결함 감지를 정확하게 수행 할 수 있습니다. 이 툴에는 대규모 데이터 세트를 빠르고 효율적으로 검사하고 측정할 수 있는 고급 소프트웨어 (Advanced Software) 와 자동 결함 분석 (Automatic Defect Analysis) 기능이 포함되어 있습니다. 이 자산은 고속 스캔 거울, 정밀 프로세스 제어, 분광 그래프 광학 모델, 안정적인 10kHz 레이저 장비 등 여러 가지 주요 기능을 자랑합니다. 이러한 구성 요소를 사용하면 기계가 정확한 이미지를 생성하고, 기존 방식보다 해상도가 큰 결함을 측정하며, 잠재적 실수를 신속하게 파악하고 진단할 수 있습니다. 전반적으로, TENCOR EDR 5210은 강력한 고성능 마스크 및 웨이퍼 검사 시스템으로, 다양한 반도체 생산 응용 프로그램에 적합합니다. 첨단 (advanced) 광 기술을 견고한 소프트웨어와 결합함으로써, 기계는 가장 작은 결함을 정확하게 감지하고 보고할 수 있으므로, 효율적이고 오류 없는 (error-free) 제조에 필수적인 도구입니다.