판매용 중고 KLA / TENCOR eDR-5210 #293755072

KLA/TENCOR eDR-5210은 반도체 재료 표면의 결함을 감지하도록 설계된 자동 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 웨이퍼 (wafer) 표면의 결함을 신속하게 검사하고 감지하여 일관성 있고, 반복 가능하며, 신뢰할 수 있는 결과를 제공하도록 설계된 애플리케이션별 시스템입니다. 이 장치는 탁월한 성능을 제공하며 강력한 검사 알고리즘을 사용하여 반사도, 시프트 (shift), 보이드 (void), 잘못된 칩 모서리, 스크래치 등 다양한 잠재적 결함을 감지합니다. 이 기계는 12 인치 프로젝션 광학 도구 (12 "projection optics tool) 를 사용하여 검사되는 재료의 특성에 따라 최대 4 미크론 (4 micron) 의 피쳐와 다양한 대비 레벨에 대한 ultrasharp 묘사를 제공합니다. 광원에는 작동 유연성을 위해 녹색 LED (550nm) 및 파란색 LED (450nm) 가 포함됩니다. 자산의 목표는 외국 물질을 파악하고 웨이퍼 (wafer) 표면의 잠재적 결함을 평가하는 것입니다. KLA eDR-5210은 또한 선형 이동 속도가 20m/s인 고속, 다중 축 모션 모델을 갖추고 있습니다. 자동 정렬 광학 (automated alignment optics) 은 백스페터 (back-spattered) 및 스트 레이 (stray) 광선을 최소화하여 전체 표면에서 정확하고 빠르게 이동하여 약간의 결함을 감지 할 수 있습니다. 전체 웨이퍼 서피스를 위에서 아래로 빠르게 스캔할 수 있으며, 양의 음극성 결함 (positive-negative polarity defects) 을 감지할 수도 있습니다. 이는 포스트 프로세싱 시간을 줄이는 데 도움이 될 수 있습니다. 이 장비는 또한 고해상도 에지 검출 (edge detection), 명암비 향상 (contrast enhancement), 결함 검출 (defect detection) 등 다양한 이미징 기술을 최적화할 수 있습니다. TENCOR EDR 5210 은 정교한 이미징 기술을 통해 자원의 의사 결정 및 활용을 위해 정확한 정보를 제공할 수 있습니다. 또한, 완전히 자동화 된 운영을 통해 수동 점검과 관련된 인건비를 줄입니다. 전반적으로 TENCOR eDR-5210 은 자동화된 애플리케이션별 시스템으로, 보다 높은 처리량, 포괄적인 결함 적용 범위, 일관되게 안정적인 결과를 제공하여 반도체 업계의 제조업체에 상당한 이점을 제공합니다. 강력한 검사 알고리즘과 다양한 이미징 (imaging) 기술을 통해 최고 수준의 정확성과 성능을 보장할 수 있습니다.