판매용 중고 KLA / TENCOR eDR-5200 #293651675

KLA/TENCOR eDR-5200은 마스크 및 웨이퍼 검사를위한 강력하고 정교한 기계입니다. 이 장비는 자동화된 알고리즘과 세계 최고 수준의 광학을 활용하여 마스크 (Mask) 와 웨이퍼 (Wafer) 의 미세한 기능을 실시간으로 분석하여 처리량을 극대화하면서 일관되고 안정적인 결과를 얻을 수 있습니다. 특허받은 KLA 1-2 미크론 이미징 기술은 KLA eDR-5200의 핵심이며, 이를 통해 시스템은 소프트웨어 플랫폼에 고해상도 이미지를 수집할 수 있습니다. 이 장치의 고급 자동 알고리즘은 결함을 나노 미터 (nanometer) 수준으로 검색, 식별, 분석하고, 비침습적 결함 검사를 활성화하고, 바이어스를 제거하도록 검토합니다. 이 시스템의 포괄적인 이미징 기능은 광범위한 데이터 포인트 (data point) 를 포괄하여 포괄적인 결과 라이브러리 (library of results) 와 실시간 평가 (real-time assessment) 를 생성합니다. 이 도구는 또한 고유한 결함을 감지하고 모든 잠재적 결함이 식별되도록 조정된 특수 알고리즘 (specialized algorithm) 을 포함합니다. 또한 TENCOR eDR-5200 은 통합/대화식 보고 자산을 제공하며, 이를 통해 상세한 결함 분석 및 검증을 수행할 수 있습니다. 디지털 데이터베이스 생성, 차트 작성, 비교 기능 이외에도 자동 결함 (automatic defect classification) 을 통해 검사 결과를 완전히 공개함으로써 이를 실현할 수 있습니다. eDR-5200 을 사용하면 다양한 결함 유형에 중량을 할당하고, 검사 모니터 (Inspection Monitor) 를 지정하고, 프로세스의 모든 단계에서 검토를 수행함으로써 검사 프로세스를 최적화하고, 사용자 정의할 수 있습니다. TENCOR 은 (는) 몇 번의 클릭만으로 사용자 정의 분석 보고서를 작성할 수 있는 사용자 친화적인 검증 및 보고 기능도 제공합니다. 자동 검사를 위해 KLA/TENCOR eDR-5200을 프로그래밍하여 수동 데이터 입력이 필요하지 않습니다. 게다가, 이 모델은 또한 작고, 지역화된 결함을 감지하고, 진단과 수리를 위해 정확한 위치를 정확히 파악할 수 있습니다. KLA eDR-5200 은 다양한 마스크 및 웨이퍼 (wafer) 구성을 추가로 지원하며, 특화된 optic 을 통해 한 기판에서 다음 기판까지 정밀하고 빠른 속도로 검사할 수 있습니다. 이 장비의 독보적인 아키텍처는 장기적인 안정성, 정확성, 반복성을 보장하도록 설계되었습니다. 품질 및 고객 중심의 혁신에 대한 KLA/TENCOR 약속은 TENCOR eDR-5200 에 반영되어 있어, 검사 및 분석 분야에서 최고 수준의 성능을 누릴 수 있습니다.