판매용 중고 KLA / TENCOR DFIMS Handler for SP1 #9262063

KLA/TENCOR DFIMS Handler for SP1은 최신 마스크 및 웨이퍼 검사 장비로, 오늘날의 가장 까다로운 반도체 재료 및 프로세스에 대한 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. 이 시스템은 결함 감지 (Defect Detection) 및 예방 (Prevention) 측면에서 최대 성능 수준을 달성하도록 설계된 많은 기술로 구성되어 있습니다. 자동 마스크 및 웨이퍼 검사, 입자 감지 및 결함 확인 기능을 제공합니다. 코어에서 KLA DFIMS Handler for SP1은 강력한 이미지 처리 및 현미경 기술을 사용하여 표면 결함을위한 마스크와 웨이퍼를 검사합니다. 이 제품은 고해상도, 대용량 이미징, 패턴 일치, 결함 분석, 통계 문서 등의 작업을 수행할 수 있도록 고급 광학 장치 (Advanced Optical Unit) 를 채택하고 있습니다. 이 방법을 사용하여 기계는 매우 정확한 결함 로컬라이제이션 (localization) 기능으로 매우 빠르고 정확하게 결함을 식별 할 수 있습니다. 이 도구는 또한 고유한 자동 초점 기능 (auto-focus feature) 을 사용하여 에셋 검사 기능의 성능을 극대화하기 위해 최적의 초점 평면 (focal plane) 에서 검사 이미지를 가져옵니다. 이는 가장 높은 정확도와 가장 짧은 검사 시간을 보장합니다. 마스크 또는 웨이퍼 서피스의 입자 및 기타 작은 결함을 정확하게 식별할 수 있는 특수 자동 임계값 (Auto-Threshold) 피쳐도 포함됩니다. 이미지 처리 기능 외에도 TENCOR DFIMS Handler for SP1에는 고급 결함 분류 모델도 장착되어 있습니다. 이 장비는 위험 수준 (risk level) 과 관련하여 감지된 결함의 실시간 분류 및 우선 순위를 지정하는 데 사용됩니다. 이렇게 하면 시스템에서 감지된 각 결함에 대해 가장 적합한 해상도와 응답을 결정할 수 있습니다. 또한 사용자 개입 없이 감지된 결함에 대한 가장 적합한 해상도를 자동으로 식별하여 마스크 및 웨이퍼 (wafer) 검사 프로세스를 대폭 간소화합니다. 전반적으로 DFIMS Handler for SP1은 표면 결함에 대한 마스크 및 웨이퍼를 검사하기위한 강력하고 정밀한 솔루션을 제공합니다. 첨단 이미지 처리 기술과 특화된 결함 분류 (Defect Classification) 기능을 결합하여 최고의 정확성, 신뢰성, 속도를 제공합니다. 따라서, 마스크 및 웨이퍼 검사를 위해 신뢰할 수 있고, 비용 효율적이며, 정확한 솔루션을 찾는 반도체 장치 제조업체에게는 적합한 선택입니다.