판매용 중고 KLA / TENCOR CV300 #9244817

KLA/TENCOR CV300은 고품질 반도체 프로세스 제어 및 최첨단 광학 검사 기술을 제공하는 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 시스템의 다단계 검사 (Multi-Stage Inspection) 프로세스를 통해 1 초 미만의 주기 시간에 웨이퍼를 검사하여 결함을 신속하게 감지하고 진단할 수 있습니다. 검사 기술은 CMOS 프로세스 제어에 이상적입니다. CMOS 프로세스 제어는 나노 미터 (nanometer) 에서 서브 미크론 (sub-micron) 및 그 이상까지 여러 규모의 기능을 감지하고 평가 할 수 있습니다. KLA CV300의 광 검사 장치 (Optical Inspection Unit) 는 공정 제어 제품군의 필수 부분으로, 최대 결함 해결을 위한 이미지 분석 알고리즘을 기반으로 다중 스펙트럼 이미징 머신, 고배율 광학 및 자동 결함 분류를 특징으로합니다. 이 도구는 또한 고급 KLA 입자 검사 기술을 사용하여 입자 크기를 100 äm에서 20 nm로 분석합니다. 또한, 오버레이 측정, 다이 레벨 도량형 (die-level metrology) 및 표면 결함 스캔과 같은 기능을 포함하며, 모두 결함 감지 및 분석을 개선하는 데 사용될 수 있습니다. 또한 TENCOR CV300 은 자동 조정 프로세스, 사용자 친화적 인터페이스, 포괄적인 측정 보고, 효율적인 데이터 관리 툴 등 다양한 고급 자산 기능을 제공합니다. 여기에는 프로세스 데이터의 표시 및 제어를 위한 소프트웨어, 중요 결함 장치 일치 (Critical Defect Device Matching), 데이터 분석 (Data Analysis) 및 프로세스 최적화 도구가 포함됩니다. 마스크 & 웨이퍼 (Mask & Wafer) 검사 모델은 모듈성을 극대화하도록 설계되었으며, 특정 프로세스 요구를 충족하는 다양한 구성 옵션을 제공합니다. 사용자 친화적 인 기능과 견고한 설계로 신뢰성이 높은 반면, 고정밀 광학 및 입자 감지 메커니즘은 서브 미크론 스케일 (sub-micron scale) 까지 우수한 웨이퍼 및 다이 레벨 검사를 가능하게합니다. 요약하자면, CV300 마스크 및 웨이퍼 검사 장비는 프로세스 제어 및 검사를 위한 일체형 솔루션입니다. 고급 옵틱 (optic), 입자 감지 (particle-detection), 다중 스케일 검사 (multi-scale inspection) 기능을 통해 프로세스 제어를 단순화하고 프로세스 단계를 줄이고 최고 수준의 정확도와 속도를 유지할 수 있도록 설계되었습니다.