판매용 중고 KLA / TENCOR CRS 3100 #9207492

KLA/TENCOR CRS 3100 Mask & Wafer Inspection Equipment는 반도체 웨이퍼의 처리량이 많은 생산 라인을 검사하고 분석하는 고성능 솔루션을 제공합니다. 이 자동 검사 시스템은 고감도 이미징 (high-sensitivity imaging) 기술을 활용하여 매우 높은 정확도와 선명도로 웨이퍼 표면의 미세 결함을 식별합니다. 또한, KLA CRS 3100 유닛은 정교한 다이 (in-die) 검토 및 분석을 통해 웨이퍼 디스크 내에 숨겨져 있는 고립 된 마이크로 결함을 감지 할 수 있습니다. TENCOR CRS 3100 머신의 중심에는 웨이퍼 (wafer) 디스크의 매우 민감한 모든 반사 이미징을 제공하는 특수 광학 어셈블리와 순차 캡처 모드에서 웨이퍼 표면의 여러 이미지를 캡처하는 CCD 카메라가 있습니다. CRS 3100 도구는 또한 슬리콘 (slicon) 과 갈륨 비소 (gallium arsenide) 웨이퍼 디스크를 모두 똑같이 정밀도 및 정확도로 지원할 수 있으므로 검사 할 수있는 웨이퍼 유형에서도 유연합니다. 이 제품에는 1.5 미크론 해상도의 고급 6 축 짐벌 (gimbal) 포지셔닝 자산이 포함되어 있어 광학 스테이지에서 웨이퍼를 매우 정확하게 정렬 할 수 있습니다. 또한 KLA/TENCOR CRS 3100 모델은 OFD (Optical Fault Detection) 를 사용하여 웨이퍼 상단 표면의 결함을 확인할 수 있습니다. 이 OFD 모듈은 고유한 고급 감지 (advanced sensing) 기술을 사용하여 결함 감지 감도를 최적화 및 개선하고 미세한 결함을 감지합니다. 또한이 장비는 또한 자동 FE-SEM 샘플링 시스템 (Auto FE-SEM sampling system) 을 갖추고 있으며, 전자 현미경 기술을 사용하여 추가 결함 분석을 위해 웨이퍼 표면에 손상된 층을 전기화학적으로 에칭합니다. 마지막으로, KLA CRS 3100 장치는 웨이퍼 디스크 검사 프로세스의 처리량을 극대화할 수 있도록 설계되었습니다. 고급 사용자 인터페이스 (Advanced User Interface) 가 장착되어 있어 검사 매개변수 (Inspection Parameter) 를 쉽게 설정하고 입력할 수 있으며, 종합적이고 사용자 정의 된 검사 레시피를 제공합니다. 또한, 이 기계는 가동 중지 시간이 매우 짧아, 사용자가 검사 매개변수를 빠르고 효율적으로 조정하고 최대한의 정확도와 속도를 위해 최적화할 수 있습니다 (영문). 이러한 혁신적인 기능과 고급 사양으로 TENCOR CRS 3100 Mask & Wafer Inspection Tool은 고급 반도체 웨이퍼 검사를 위한 최고의 솔루션 중 하나로 선정되었습니다.