판매용 중고 KLA / TENCOR CRS 1010 #9382222

KLA/TENCOR CRS 1010 마스크 및 웨이퍼 검사 장비는 반도체 제작 프로세스에 가장 적합한 자동 광학 검사 플랫폼입니다. 이 시스템은 레이저 (laser) 를 사용하는 고급 초점 이미징 기술을 기반으로 마스크 (mask) 와 웨이퍼 (wafer) 기판에서 작고 정확한 구조를 빠르게 이미징할 수 있습니다. KLA CRS 1010에는 2 메가 픽셀 CMOS 카메라와 고출력 레이저가 장착되어 있으며, 이는 매우 높은 배율로 이미지를 캡처하고 검사하는 데 사용됩니다. "레이저 '는 미리 설정된 해상도 에 초점 을 맞추면서 최적 의 양 의 빛 을 내도록 보정 된다. "레이저 '는" 레이저' 가 정확 하게 작동 하고 있으며 안전 표준 을 초과 하지 않도록 장치 에 의해 개별적 으로 추적 되고 모니터링 된다. TENCOR CRS 1010은 단일 웨이퍼에서 결함 검사, 오염 물질 감지 및 입자 분석을 수행 할 수 있습니다. 이 기계는 패턴 인식 (pattern recognition) 및 분류 알고리즘 (classification algorithm) 을 사용하여 결함을 빠르고 정확하게 식별하고 분류할 수 있습니다. 이 도구에는 마스크/웨이퍼 검사 프로세스 (mask/wafer inspection process) 동안 진정한 양수/음수 분류 및 데이터 분석에 대한 검사 매개변수 및 임계값을 조정하는 데 사용할 수있는 통합 소프트웨어도 있습니다. CRS 1010 에는 자체 데이터 저장 및 통신 솔루션도 포함되어 있어 전체 마스크/웨이퍼 (mask/wafer) 검사 프로세스의 허브 역할을 할 수 있습니다. 기존 운영/인프라스트럭처에 원활하게 통합할 수 있으며, 자체 소프트웨어 검사 알고리즘/장치 라이브러리 (Library of Inspection Algorithms and Devaratus) 를 갖추고 있습니다. KLA/TENCOR CRS 1010에는 직관적인 사용자 인터페이스가 있어 프로그램 및 활용이 용이합니다. 또한 다양한 운영 환경에 적응할 수 있도록 설계되었으며, 종합적인 도량형 (metrology) 패키지도 갖추고 있습니다. 즉, 유연성과 전반적인 활용성을 향상시켜 여러 애플리케이션에 신속하게 적용할 수 있습니다. 마지막으로 KLA CRS 1010은 False Call 비율이 엄청나게 낮으며 생산 수익률 향상에 크게 기여합니다. 잠재적 인 인간 오류를 제거함으로써, 자산은 작업에서 더 큰 균일성을 제공하며, 앙스트롬 (Angstrom) 수준까지 결함을 감지하고 수정 할 수 있습니다. 결과적으로 TENCOR CRS 1010은 마스크 및 웨이퍼 검사 프로세스에 강력하고 신뢰할 수있는 도구입니다.