판매용 중고 KLA / TENCOR CRS 1010 #293768827

KLA/TENCOR CRS 1010은 전자 제품 제조 및 반도체 산업을 위해 설계된 최첨단 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 고급 검사 (Advanced Inspection) 기능은 사용자에게 정교한 기능과 강력한 기술을 제공하여 반도체 패턴 인식 (Pattern Recognition) 을 최고로 제공합니다. KLA CRS 1010은 레이저 현미경, 광각 광학 시스템 및 4 축 스테이지 유닛을 포함한 다양한 구성 요소로 구성됩니다. 레이저 현미경을 이용하면 웨이퍼 (wafer) 와 마스크 (mask) 의 고해상도 이미지를 얻을 수 있습니다. 광각 광학 기계 (Wide Angle Optics Machine) 는 입사각 및 회절 알고리즘을 사용하여 단일 렌즈광 뷰 서피스를 생성합니다. 이렇게 하면 사용자가 웨이퍼 (wafer) 또는 마스크를 방해하지 않고 볼 수 있으며, 결과 측정 데이터의 정확도를 최대화할 수 있습니다. 4축 스테이지 도구 (four-axis stage tool) 는 다양한 동작 (motion) 을 제공하여 측정의 이미지 품질과 정확도를 최적화하기 위해 원하는 방향으로 오브젝트를 정확하게 정렬할 수 있습니다. 성능 측면에서 TENCOR CRS 1010 (TENCOR CRS 1010) 은 시중의 다른 상업용 자산의 해상도와 속도를 초과하는 이미지 패턴을 분석할 수 있습니다. 스캔 시간은 다른 시스템보다 상당히 빠르며, 가장 복잡한 패턴에 대해 총 스캔 시간이 40ms (40ms) 입니다. 매우 작은 결함을 감지하여 오류 (Error) 와 이상 (Anomalies) 을 감지할 수 있도록 설계되었으며, 이 오류는 다른 시스템에 의해 누락될 수 있습니다. CRS 1010은 자원 사용량에서도 매우 효율적입니다. 모듈식 설계 (Modular Design) 는 가장 효율적인 작업에 필요한 리소스만 활용하고, 전체 설치 공간을 최소화하도록 구성할 수 있습니다 (영문). KLA/TENCOR CRS 1010은 또한 사용자 친화적이며, 단순하면서도 포괄적인 사용자 인터페이스를 제공합니다. 이렇게 하면 모델 설정과 스캐닝이 쉽고 효율적으로 이루어집니다. 또한, 스캐닝된 이미지의 분석 및 처리를 자동화할 수 있도록 하는 여러 가지 전문 소프트웨어 패키지 (specialized software package) 가 포함되어 있어 워크플로우를 사용자 정의하고 최적화하고 처리량을 극대화할 수 있습니다. 결국, KLA CRS 1010은 최고의 효율성과 성능을 염두에 두고 설계된 강력한 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 검색 시간이 매우 짧은 고해상도 (High Resolution) 이미지를 수집하고 매우 작은 결함과 오류를 감지할 수 있습니다. 사용자 친화적 인터페이스와 자동 스캐닝 (automated scanning) 기능을 통해 모든 정밀 제조 어플리케이션에 적합한 솔루션이 됩니다.