판매용 중고 KLA / TENCOR Candela CS20 #9366062

KLA/TENCOR Candela CS20은 민감하고 복잡한 이미징 어플리케이션을 위해 설계된 최첨단 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 가장 효율적인 마스크 및 웨이퍼 검사 프로세스를 지원하는 KLA 이미징, 분석, 지능형 통합 워크플로우 솔루션을 기반으로 합니다. 이 장치는 운영 환경에서 결함 적용 범위당 비용 효율적인 비용을 제공하도록 최적화되었습니다 (영문). CS20은 고급 알고리즘을 사용하여 마스크와 웨이퍼에서 발견되는 가장 일반적인 결함을 감지합니다. 12 m 해상도로 디지털 이미지를 캡처 할 수있는 CCD 카메라가 특징입니다. 이 카메라는 비네팅을 없애고 전체 마스크 (mask) 와 웨이퍼 (wafer) 시야의 균일 한 조명을 제공하는 시야광로 (field-of-view light path) 로 설계되었습니다. 또한, 기계는 가장 높은 검사 정확도를 보장하기 위해 광범위한 자동 패턴 인식 (automated pattern recognition) 옵션을 제공합니다. 고성능 조명 (Lighting), 정렬 (Alignment), Z 감지 기능으로 정확하고 철저한 검사를 제공합니다. 또한 결함 분석 (자동 분류) 및 데이터 수집 (온라인/오프라인) 과 같은 여러 기능 그룹 관리 기능을 지원하여 결함 및 기타 불규칙성을 신속하게 감지합니다. 또한 CS20은 포괄적인 웨이퍼 레벨 (wafer-level), 다이 레벨 (die-level) 및 제품 레벨 결과 수집 기능을 제공하는 강력한 분석 제품군을 갖추고 있습니다. 이러한 자동 결함 감지, 결함 분류 및 추세 분석 (Trending Analysis) 의 조합으로 종합적인 패키지가 만들어져 웨이퍼 (Wafer) 및 마스크 (Mask) 수율을 크게 향상시킵니다. 이 툴은 빠른 설정 시간 (settup time) 과 최고 수준의 성능 (performance) 을 통해 시간당, 효율적이고 정확하게 수백 개의 웨이퍼를 실행할 수 있습니다. CS20 은 "웨이퍼 '와" 마스크' 에서 "패턴 '을 탐지 하는 효율적 이고 신뢰 할 만한 방법 을 찾는 반도체 제조업체 들 에게 이상적 이다. 검사 시간 단축, 테스트 범위 개선, 이상 감소, 수율 극대화를 위해 설계되었습니다. 이 자산은 생산 라인에 대한 최첨단 검사 솔루션을 찾는 사람들에게 완벽한 선택입니다 (영문).