판매용 중고 KLA / TENCOR Candela CS20 #293772319
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ID: 293772319
웨이퍼 크기: 6"
빈티지: 2006
Surface measurement system, 6"
Illumination source: 8mW
Operator interface: Tracball and keyboard standard
Substrate thickness: 350 µm-1100 µm
Substrate material: Any clear / Opaque polished surface
Defect sensitivity: 0.08 µm
Scratches: 100 µm
Stain: 20 µm
Opaque substrates
EPI Layer
Transparent film coatings: SIC, GaN, Sapphire
Parameters: Ra / Rq / Wa / Wq
Cassette handling: Single puck with up to 200m
Operating environment specifications:
Voltage supply: < ±10%
Environment: Class 1000 / Better recommended
Air: CDA 95-110 psi, 2 CFM
Equipment: Pollution degree 2
Power supply: 8A
Computing system:
Hard drive: 200 gb
RAM: 2 gb
Ethernet: Network card
Operating system: Microsoft windows XP
2006 vintage.
KLA/TENCOR Candela CS20은 최첨단 마스크 및 웨이퍼 검사 장비로, 반도체 제조 공정에서 필수적인 도구입니다. 이 시스템은 결함을 감지하고, 집적회로 생산에 사용되는 마스크 (mask) 와 웨이퍼 (wafer) 의 품질을 보장하기 위한 고해상도 이미징 및 분석 기능을 제공하도록 설계되었습니다. 클라칸델라 CANDELA CS-20 (KLA CANDELA CS-20) 은 첨단 광학 기술로, 매우 선명하고 정밀하게 마스크와 웨이퍼에 대한 매우 상세한 이미지를 캡처할 수 있습니다. 기계는 브라이트 필드 (brightfield) 와 다크 필드 조명 (darkfield illumination) 기술의 조합을 사용하여 이러한 중요한 컴포넌트의 표면에 존재할 수있는 결함 및 기타 불완전성을 나타냅니다. 텐코 캔델라 CS 20 (TENCOR CANDELA CS 20) 의 고해상도 이미징 기능을 통해 크기가 몇 나노미터 (nanometer) 에 불과한 결함을 감지할 수 있으므로 제조 과정에서 가장 미세한 결함까지 파악하고 해결할 수 있습니다. 캔델라 CS20 (Candela CS20) 의 주요 특징 중 하나는 마스크 및 웨이퍼에 대한 신속하고 자동화된 검사를 수행하는 기능으로, 많은 수의 구성 요소를 단시간 내에 고도로 분석할 수 있습니다. 이 툴에는 고급 이미지 처리 (Advanced Image Processing) 알고리즘이 장착되어 있어 결함 및 이상을 빠르고 정확하게 파악할 수 있으며, 제조업체가 높은 수준의 품질 제어 (Quality Control) 를 유지하고 제품의 안정성과 일관성을 보장할 수 있습니다. CANDELA CS 20은 이미징 기능 외에도 다양한 분석 도구와 기능을 제공하므로 마스크 (Mask) 와 웨이퍼 (Wafer) 에 대한 결함 및 기타 기능에 대한 자세한 분석을 수행할 수 있습니다. 에셋은 표면의 3D 표현을 생성할 수 있으며, 결함의 심층적 특성화가 가능하며, 형태와 분포에 대한 귀중한 통찰력을 제공합니다. 사용자는 결함 데이터에 대한 통계적 분석 (statistical analysis) 을 수행할 수도 있으며, 제조 공정의 근본적인 문제를 나타내는 경향과 패턴을 식별하는 데 도움이 됩니다. TENCOR Candela CS20 (TENCOR Candela CS20) 은 사용자가 신속하게 검사를 설정하고 실행할 수 있도록 직관적인 인터페이스를 통해 사용자 친화적이고 쉽게 작동할 수 있도록 설계되었습니다. 루틴 품질 제어 (Routine Quality Control) 검사에서 특정 피쳐나 결함에 대한 심층적인 분석 (Analysis) 에 이르기까지 다양한 검사 작업을 수행하도록 모델을 구성할 수 있습니다. 사용자는 검사 매개변수 (Inspection Parameter) 와 기준을 특정 요구사항에 맞게 사용자 정의할 수 있으며, 이 장비는 제조 작업의 고유한 요구를 충족할 수 있습니다. 전반적으로 CANDELA CS-20은 최첨단 마스크 및 웨이퍼 검사 시스템으로, 반도체 제조업체를 위한 탁월한 이미징 및 분석 기능을 제공합니다. 고급 광학 기술, 고해상도 이미징 기능, 정교한 분석 툴을 갖춘 KLA/TENCOR CANDELA CS-20은 결함을 감지하고 집적 회로 생산에 사용되는 마스크, 웨이퍼의 품질, 신뢰성을 보장하는 강력한 솔루션을 제공합니다.
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