판매용 중고 KLA / TENCOR Archer XT+ #9221904

KLA/TENCOR Archer XT + 는 차세대 마스크 및 웨이퍼 프로세스 기술을 사용하도록 설계된 획기적인 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 강력하고 유연한 이미지 분석 기능을 통해 마스크 (Mask) 와 웨이퍼 (Wafer) 의 잠재적 결함을 신속하게 파악할 수 있으며, 제조업체가 제작을 시작하기 전에 수정 조치를 취할 수 있습니다. 이 장치는 고급 옵틱 (optic) 과 이미지 프로세싱 (image processing) 의 강력한 조합으로 구성되며, 이미지를 빠르고 정확하게 캡처하고 처리할 수 있습니다. 이 기계에는 지능형 분석 알고리즘과 통합된 고해상도 (High Definition) 및 다중 파장 이미징 공구가 포함되어 있습니다. 이를 통해 마스크와 웨이퍼의 잠재적 결함을 빠르고 정확하게 감지 할 수 있습니다. 이 도구는 입자, 오염 물질, 오버레이 오류, 반사율 감소 영역, 기타 불규칙성 (imrularity) 과 같은 잠재적 문제를 식별하기 위해 이미지를 빠르고 정확하게 분석하도록 설계되었습니다. 이 자산은 확장성이 쉽고, 다른 기술/시스템과의 통합이 가능한 유연한 아키텍처로 설계되었습니다. 이를 통해 모델을 다양한 애플리케이션 및 운영 환경에 사용할 수 있습니다. 장비는 추가 장비 (Additional Equipment) 나 수정 (Modification) 이 필요없어서 설치 시간과 전체 비용이 절감됩니다. KLA Archer XT + 는 세계적 수준의 이미지 분석 및 결함 감지 기능을 제공합니다. 최첨단 광학 (Optics) 및 이미지 처리 (Image Processing) 알고리즘을 사용하면 매우 정확한 결과를 얻을 수 있으며 대용량 이미지 세트를 신속하게 분석할 수 있습니다. 이 시스템에는 사용자에게 친숙한 GUI (그래픽 인터페이스) 툴이 포함되어 있어 데이터를 쉽게 해석하고 잠재적인 문제를 신속하게 해결할 수 있습니다. 이 장치는 사용자에게 프로세스의 모든 단계에 품질 (quality) 을 구축할 수 있는 자신감을 부여합니다. 구성에 따라, 기계는 미립자, 오염 물질, 오버레이 오류, 언더컷 등 다양한 유형의 결함을 감지 할 수 있습니다. 더 많은 고급 알고리즘과 이미지 처리 (image processing) 옵션을 사용하여 잠재적인 문제를 보다 정확하게 파악하고 해결할 수 있습니다. 이 도구는 다양한 생산 환경과 호환성이 높으며, 습도 높음 (High Hidity), 광원이 낮은 상태 (Low Light Condition), 진동 (Vibration) 등 다양한 조건에서 작동할 수 있습니다. 즉, 사용자가 운영 환경에 관계없이 잠재적인 문제를 정확하고, 안정적으로 파악할 수 있게 해 줍니다 (영문). TENCOR Archer XT + 는 제조업체에 잠재적인 문제를 신속하게 해결하고 제품 품질 (Quality) 을 유지할 수 있는 자신감을 부여하도록 설계되었습니다. 고급 광학 (Optics) 및 지능형 이미지 분석 (Intelligent Image Analysis) 알고리즘은 사용자가 정확하고 적시에 결과를 얻을 수 있는 반면, 유연하고 확장 가능한 아키텍처는 빠른 설정과 최소한의 다운타임을 보장합니다.