판매용 중고 KLA / TENCOR Archer AIM+ #9109277

KLA/TENCOR Archer AIM + 는 현대 반도체 산업을 위해 설계된 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 자동 시스템은 중요한 photomask 및 reticle 응용 프로그램에 대한 검사 및 검토 도구를 제공합니다. KLA Archer AIM + 는 프로세스 개발 및 운영 크리티컬 계층 모두에서 결함을 감지 할 수 있습니다. TENCOR Archer AIM + 는 최고의 검사 정확성과 비용 절감을 제공하도록 설계되었습니다. 현미경 영상, 광산란, 편광 영상 등 여러 기술을 활용해 복잡한 수작업 (manual sample) 준비 없이도 결함을 감지할 수 있다. Archer AIM + 는 또한 독점 알고리즘 및 고급 패턴 인식을 사용하여 미묘한 기하학적 및 포토 마스크 결함을 감지합니다. 그 "에너지 '는 즉시 결함 을 탐지 하고 특징 짓기 때문 에 준비 와 검사 시간 을 더욱 줄여준다. KLA/TENCOR Archer AIM + 는 또한 광범위한 검토 기능을 제공합니다. 여기에는 패턴 분석 및 추적, 결함 식별 및 검토, 추적 및 분석이 포함됩니다. 이 장치의 고급 패턴 라이브러리 (advanced pattern library) 를 사용하면 사용자가 정의한 사용자 정의 패턴뿐만 아니라 업계 표준 패턴과도 비교할 수 있습니다. 또한 KLA Archer AIM + 는 검토 프로세스를 돕기 위해 여러 주석 및 오버레이 옵션을 제공합니다. TENCOR Archer AIM + 는 강력한 결함 감지 및 검토 기능 외에도 자동 결함 검사, 결함 클러스터 감지 및 보고 기능을 제공합니다. 유연성이 뛰어난 모듈식 플랫폼은 인라인 (in-line) 기능과 오프라인 (off-line) 통합을 위한 확장성을 제공하여 다양한 애플리케이션과 프로세스를 지원합니다. 광범위한 소프트웨어 및 하드웨어 옵션을 갖춘 Archer AIM + 는 다양한 포토 마스크 (photomask) 및 레티클 검사 어플리케이션에 적합합니다. KLA/TENCOR Archer AIM + 는 photomask 및 reticle 결함을 감지하고 검토하기위한 자동화된 비용 효율적인 솔루션입니다. 이 기계는 자동화된 결함 검사, 클러스터 분석, 보고 기능과 함께 강력한 결함 감지 및 검토 기능을 제공합니다. 포괄적인 패턴 라이브러리와 주석 (annotation) 기능을 통해 사용자가 신속하고 정확하게 결함을 파악하고 특성화할 수 있습니다. 또한 KLA Archer AIM + 는 프로세스 통합을 위한 확장 가능한 플랫폼을 제공하며, 다양한 운영 환경에 적합한 솔루션입니다.