판매용 중고 KLA / TENCOR Archer AIM+ #293821668

KLA/TENCOR Archer AIM + 는 반도체 제작을위한 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 고수율 프로세스 제어 (High Yield Process Control) 를 위한 고성능 도구이며, 업계 최고의 해상도와 정확도를 자랑합니다. AIM + 는 해상도, 시야 (field of view), 정밀도 (precision) 의 독특한 조합을 제공하여 처리량 및 데이터 분석 품질을 크게 높였습니다. 고급 알고리즘 (advanced algorithm) 과 다양한 자동화된 도구 (automated tools) 를 사용하여 이 시스템은 포괄적인 마스크, 웨이퍼 검사 및 분석 기능을 제공합니다. 이 장치는 마스킹 레티클, 웨이퍼 서브 리토 그래피, 멀티 레이어 및 백 사이드 코팅, 솔더 마스크 및 범핑을 검사하도록 설계되었습니다. 통합 카메라 컨트롤러, 자동 초점 머신, 이미지 프로세서 (Image Processor) 를 통해 탁월한 이미지 분석 기능을 제공하며 3D 구조의 분석도 제공합니다. AIM + 는 여러 고급 알고리즘을 사용하여 인쇄 된 레이어와 색상 극성, 구조, 침식 및 제어 하이브리드 이미징 등 결함을 모두 분석합니다. 또한, 추가 감지 기능을위한 여러 독점 패턴 인식 알고리즘을 제공하며, 높은 동적 범위 (dynamic range) 와 밝은 필드 이미징 (bright-field imaging) 을 모두 제공합니다. 이 도구에는 대상 피쳐, 포커스 위치 (focus position) 및 검사 카메라 방향 (inspection camera orientation) 을 선택하여 최적의 결과를 제공하는 기능을 포함하여 수동 및 자동 기능이 모두 있습니다. 또한 사용자 친화적 인 GUI 및 여러 언어를 지원하는 간단한 작업, 간단한 프로그래밍, 최소한의 교정을 제공합니다. 에셋은 확장성이 높으며 여러 칩 장치와 다양한 유형의 이미지 분석 응용 프로그램 (예: 도량형, 3D 이미징) 에 맞게 구성할 수 있습니다. 또한 기존 반도체 제작 프로세스에 쉽게 통합 될 수 있습니다. 데이터 분석 및 보고를 용이하게 하기 위해 KLA Archer AIM + 는 강력한 데이터 스토리지 하위 시스템, 빠른 백 추적 기능, 뛰어난 포지셔닝 정확성을 갖추고 있습니다. 또한이 모델은 높은 정확도의 fiducial mark 감지 기능을 사용하여 뛰어난 정렬 및 결함의 일대일 상관 관계를 제공합니다. TENCOR Archer AIM + 은 반도체 제작에 필요한 전력 및 정밀도를 갖춘 고급, 견고한 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 뛰어난 이미지 분석 (image analysis) 및 3D 구조 검사를 위한 자동/수동 기능뿐만 아니라, 필요한 해상도와 시야를 제공합니다. 많은 독점 알고리즘, 통합 카메라 컨트롤러, 데이터 스토리지 (data storage) 및 빠른 백트레이스 (backtrace) 기능을 갖춘 이 시스템은 마스크 및 웨이퍼 검사를 위한 포괄적이고 다양한 솔루션을 제공합니다.