판매용 중고 KLA / TENCOR Archer 300 #9301024

KLA/TENCOR Archer 300은 반도체 장치에 대한 고정밀 모니터링 및 결함 감지를 제공하기 위해 설계된 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 제품은 생산 라인에서 최적의 성능에 맞춰져 있으며, 대량생산을 위한 높은 처리량과 강력한 안정성을 제공합니다. KLA Archer 300의 핵심은 강력한 이미징 기술입니다. 이 시스템은 고급 펄스 트레인 (pulse-train) 기반 광학 기술을 사용하여 17 ½ m 픽셀 업적을 제공하며, 이는 15 ½ m 이하의 결함 감지를 가능하게하여 가장 까다로운 응용 분야에 적합합니다. 3600 이미징 아키텍처는 경쟁 시스템에 비해 해상도가 4 배 향상되었습니다. TENCOR Archer 300에는 다중 각도, 이중 미러 광 헤드가 있어 단일 어레이 시스템보다 높은 해상도와 더 나은 표면 범위를 제공합니다. 이 장치는 또한 가장 가까운 기능에 자동으로 집중하여 감지 안정성을 최적화하는 데 사용되는 독특한 다중 초점 길이 (multiple-focal-length) 기능을 갖추고 있습니다. Archer 300에는 HD 시각화 기능도 있습니다. 여기에는 고대비 결함에 대한 정확한 해석 및 주석을 보장하는 시각 형상 하위 시스템이 포함됩니다. 이 시스템은 고성능 휴대용 모니터와 전용 원격 대화식 시각화 워크스테이션을 모두 지원합니다. 또한 KLA/TENCOR Archer 300은 KLA 최신 알고리즘을 사용하여 표준 및 자동 웨이퍼 매핑을 모두 지원합니다. 이렇게 하면 프로세스 제어가 빠르고 효율적이며, 레시피 설정을 빠르게 조정할 수 있습니다. 이 툴은 오프라인 프로세스 모니터링 (offline process monitoring) 도 지원하므로 제품 제공 없이 지속적인 프로세스 모니터링이 가능합니다. KLA Archer 300은 견고하고 신뢰할 수 있는 프로덕션 솔루션입니다. 이 자산은 이중 전극 및 이중 스테이지 레티클 (reticle) 모델로 이중화를 제공하여 장애 복구를 신속하게 수행하고 장비의 가용성과 성능을 향상시킵니다. 또한 사전 예방적 모니터링 및 유지 보수 기능을 통해 단위의 가동 시간과 효율성을 극대화할 수 있습니다. 결론적으로 TENCOR Archer 300 마스크 및 웨이퍼 검사기는 뛰어난 이미지 품질, 고해상도 이미징 및 정확한 결함 감지를 제공합니다. 또한 자동화된 웨이퍼 매핑, 오프라인 프로세스 모니터링 및 강력한 이중화를 지원합니다. 이 제품은 반도체 장치의 고정밀 모니터링 및 결함 감지를 위한 완벽한 솔루션입니다.