판매용 중고 KLA / TENCOR Archer 300 #9287998

KLA/TENCOR Archer 300은 탁월한 자동 수율 및 성능 분석을 제공하기 위해 설계된 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. KLA Archer 300은 고급 이미지 인식 알고리즘을 사용하여 반도체 제조에 사용되는 마스크 및 웨이퍼 패턴의 결함을 감지, 분석, 분류합니다. 이 시스템은 시간당 1300 만 개가 넘는 사이트에서 지형 및 파라 메트릭 이상을 모두 감지 할 수 있습니다. 이 사이트들은 마스크 (Mask) 와 웨이퍼 (Wafer) 패턴 사이의 불일치를 감지하고 정확하게 수정하기 위해 스캔됩니다. 또한 선 (Line) 좁거나 브리지 고장 (Bridge Failure) 과 같은 다양한 결함 유형에 대한 고급 분석을 수행할 수도 있습니다. TENCOR Archer 300은 최고의 정확도 및 성능 표준을 초과하도록 설계되었습니다. 최신 이미징 (Imaging) 기술을 활용하면 미크론 (micron) 수준까지 결함을 감지하고 분석할 수 있다. 고도의 패턴 인식 (Advanced Pattern Recognition) 알고리즘은 이상적인 패턴에서 가장 작은 편차를 인식하여 결과의 시간 (Time to Result) 및 수율 (Yield Rate) 을 높일 수 있습니다. 또한, KLA 직관적인 소프트웨어를 사용하면 테스트 매개변수 및 결과 프레젠테이션을 원활하게 사용자 정의할 수 있습니다. 사용자에게 친숙한 GUI (그래픽 인터페이스) 를 사용하여 테스트의 매개변수를 신속하게 정의하고 사용자 지정 가능한 보고 (reporting) 를 작성할 수 있습니다. 이를 통해 사용자는 이전보다 더 빨리 결함 및 계층을 분석, 보고할 수 있습니다. Archer 300은 획기적인 차세대 기술 노드에 특히 유용합니다. 가장 복잡하고 밀도가 높은 웨이퍼 (wafer) 패턴을 모니터링하고 분석하여 다중 패턴 (multi-patterned) 디자인과 관련된 미세한 결함을 정확하게 감지 할 수 있습니다. 머신은 또한 프로세스 변동 (process variation) 의 영향과 마스크 (mask) 및 웨이퍼 (wafer) 성능에 미치는 영향을 시간이 지남에 따라 모니터링할 수 있습니다. KLA/TENCOR Archer 300은 반도체 제조 중 마스크 및 웨이퍼 결함을 모니터링, 분석하는 강력하고 안정적인 도구입니다. 탁월한 정확성과 제어 기능을 제공하여, 보다 빠른 처리 시간 (turnaround time) 으로 보다 정확한 분석을 가능하게 합니다. KLA 아처 300 (KLA Archer 300) 은 최신 이미징 및 패턴 인식 기술을 활용하여 테스트/분석과 관련된 시간과 비용을 줄이면서 더 높은 수익률을 유지할 수 있도록 지원합니다.