판매용 중고 KLA / TENCOR Archer 200 AIM #9176636

KLA/TENCOR Archer 200 AIM 마스크 및 웨이퍼 검사 장비는 200mm 제조 반도체 제품의 결함을 감지하는 데 사용되는 정밀 석판화 도구입니다. 이 도구는 브라이트필드 이미징 (brightfield imaging), 다크 필드 이미징 (dark field imaging) 및 산포 라이트 이미징 (spatter light imaging) 을 사용하여 패턴화된 피쳐의 광학 투과성 및 반사성의 변화를 정확하게 감지합니다. 이 시스템은 각 피쳐의 고해상도 이미지를 캡처하여 패턴 (pattern) 이나 오픈/쇼트 (open/shorts) 등의 결함을 분석할 수 있습니다. 이를 통해 리토 패턴 (litho pattern) 기능을 완벽하게 검사할 수 있으며, 고품질 엔드 제품을 생산할 수 있습니다. KLA Archer 200 AIM 장치에는 AMI (Automated Mask Inspection) 하위 시스템과 AWI (Automated Wafer Inspection) 하위 시스템의 두 가지 자동 하위 시스템이 있습니다. 이 두 시스템은 함께 작동하여 리소그래피 프로세스를 전체적으로 보여줍니다. AMI는 웨이퍼가 노출되기 전에 포토 마스크 (photomask) 의 패턴과 결함을 분석합니다. 이를 통해 리소그래피 프로세스 중에 발생할 수있는 모든 잠재적 인 문제를 조기에 감지 할 수 있습니다. AWI는 노출 및 개발 된 후 패턴 화 된 웨이퍼를 검사합니다. 이를 통해 패턴 (pattern) 을 보다 자세히 검사할 수 있으며, 예상 패턴 (pattern) 과 실제 결과 (actual results) 간의 불일치를 측정할 수 있습니다. TENCOR Archer 200 AIM 머신은 반도체 생산 비용을 줄이는 데 도움이되는 여러 가지 이점을 제공합니다. 첫째, 이 툴은 단일 패스로 마스크와 웨이퍼 (wafer) 를 검사하여 더 빠른 생산 처리량을 제공합니다. 둘째, 자산은 반자동 (semi-automatic) 결함 검토를 제공하므로 모든 결함을 수동으로 검사하고 확인할 필요가 없습니다. 또한, 이 모델은 패턴 프로파일 (pattern profile) 과 선 너비 (line width) 를 측정하는 기능, 균열 (crack) 및 기타 결함을 감지하는 기능 등 다양한 이미징 및 분석 기능을 제공합니다. 마지막으로, 장비는 시간당 최대 140 개의 웨이퍼를 검사 할 수 있습니다. 결론적으로, Archer 200 AIM 마스크 및 웨이퍼 검사 시스템은 리소그래피 프로세스의 결함을 감지하고 분석하기위한 강력한 도구입니다. 이 장치는 탁월한 이미징 기능과 다양한 유용한 자동 분석 기능을 제공합니다. 또한, 높은 처리량을 통해 생산이 빨라지고, 비용이 절감되므로, 200mm 반도체 생산에 이상적인 선택이 됩니다.