판매용 중고 KLA / TENCOR Archer 10 XT #9258184

KLA/TENCOR Archer 10 XT는 반도체 제작에 사용하도록 설계된 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 사진 마스크 (photomask) 와 웨이퍼 (wafer) 의 결함을 빠르고 정확하게 감지하고 식별하는 데 도움이됩니다. KLA ARCHER10XT (Automated Defect Review System) 는 의심스러운 기능에 대한 종합적인 분석을 제공하는 자동화된 결함 검토 시스템으로, 사용자가 포토마스크 및 웨이퍼의 잠재적 결함을 빠르고 쉽게 조사하고 해결할 수 있도록 해 줍니다. 또한, 이 장치는 작은 결함을 감지하기 위해 높은 민감도를 가지고 있으며, 응용 프로그램에 따라 0.7 미크론 (0.7 미크론) 에서 12 미크론 (12 미크론) 까지의 해상도 수준이 가능합니다. TENCOR ARCHER 10XT는 20X 레이저와 고속 광학 (optic) 을 사용하여 물리적 샘플 이동이 필요 없이 장치의 전체 표면을 빠르게 스캔합니다. 이 기계는 MEMS/MOEMS, 웨이퍼, 포토 마스크 등 다양한 장치 유형을 처리하도록 설계되었습니다. 이미지 처리 기능은 FinFET, Fin Field-Effect Transistor 및 HMI, High Brightness Light Emitting Diodes와 같은 고급 구조에도 사용됩니다. 이미지 처리 기능 외에도, KLA/TENCOR ARCHER 10XT는 다양한 정교한 소프트웨어 기능을 통해 검사 프로세스의 속도와 정확성을 높입니다. 사전 설정된 기준에 따라 (또는 사용자가 지정한 경우) 모든 잠재적 결함을 식별하고 분류하도록 도구를 구성할 수 있습니다. 고급 결함 클러스터링 (advanced defect clustering), 독점 결함 상태 머신 (exclusive defect state machine), 합성 결함 생성 (synthetic defect generation) 과 같은 기능은 고급 데이터 분석에 대한 상세한 지능을 제공합니다. 또한, ARCHER10XT 는 구성 가능한 조명, 명암비, 색상 값으로 결함 이미지를 만들 수 있으며, 자동 결함 크기와 결함 메모리 비교 소프트웨어가 포함된 강력한 사후 처리 (post-processing) 자산을 보유하고 있습니다. 이를 통해 사용자는 검사 전/후에 디바이스의 모든 변형을 쉽게 시각화하고 비교할 수 있습니다. 이 모델은 또한 광범위한 인터페이스를 지원하므로 기존 운영 프로세스와 손쉽게 통합할 수 있습니다 (영문). 또한, 고급 웹/보고 기능을 통해 데이터를 원격으로 액세스하고 분석할 수 있습니다. 전반적으로, 아처 10XT (ARCHER 10XT) 는 빠르고 효율적인 결함 감지 및 분석을 제공하는 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 풍부한 기능의 소프트웨어, 이미징 기능, 접속성 옵션을 통해 모든 반도체 (semiconductor) 제작 환경에 적합한 솔루션을 추가할 수 있습니다.