판매용 중고 KLA / TENCOR Archer 10 XT #9250148

KLA/TENCOR Archer 10 XT는 마스크 및 웨이퍼 검사 장비로, 다양한 반도체 프로세스 노드에 대한 높은 처리량과 정확한 계측 방법을 제공합니다. KLA ARCHER10XT는 0.05 äm의 회선 너비 (line width) 를 포함하여 가장 작은 기능을 감지하도록 설계되어 5/5nm와 같은 최첨단 기술 노드에 적합합니다. 이 시스템은 최대 20µm의 넓은 FOV (Field of View) 를 제공하여 사이트 간, 단계 및 반복 측정을 가능하게합니다. 고급 알고리즘을 사용하여 TENCOR ARCHER 10XT (TENCOR ARCHER 10XT) 는 극도의 저대비 이미지에서도 입자 존재 여부와 그 특성을 정확하게 결정할 수 있습니다. KLA/TENCOR ARCHER10XT는 소규모로도 입자를 감지 할 수있는 SOI (Advanced Silicon on Insulator) 웨이퍼를 기반으로합니다. 더 큰 동적 범위 및 확장 노출 범위와 결합된 고급 브라이트필드 광학 (Advanced brightfield optics) 은 어둡고 반사적인 표면 및 임계 레이어 깊이에서 결함 감지를 지원합니다. 이 단위를 독특하게 만드는 것은 향상된 어두운 필드, 밝은 필드, 비스듬한 조명을 결합한 하이브리드 조명 기계 (hybrid illumination machine) 입니다. ARCHER10XT 의 고급 소프트웨어 (Advanced software of ARCHER10XT) 에는 독점 알고리즘 및 여러 이미지를 동시에 캡처하여 결함 민감도 및 false call reduction 을 높입니다. 이 도구는 다양한 측정 기술을 사용하기 쉬운 "스마트 캡처 (Smart-Capture)" 도구와 결합하여 높은 처리량, 정확도, 신뢰성을 위한 검사 설정을 최적화합니다. 또한 TENCOR ARCHER10XT는 에지 감지, 피쳐 인식, 배리어 레이어 측정 등 고유한 검사 기능 패키지를 제공합니다. 모서리 감지 기능을 사용하면 오버레이 (overlay) 를 포함한 전체 임계 마스크 레이어를 스캔하여 마스크 피쳐를 더 잘 분석할 수 있습니다. 고급 알고리즘 (advanced algorithm) 을 통해 지원되는 기능 인식 (feature recognition) 기술을 통해 복잡한 모양과 패턴을 보다 빠르고 정확하게 측정할 수 있습니다. 마지막으로, 장벽 층 측정 기능은 최대 0.01äm의 정확도를 제공하여 좁은 트렌치 라인 (trench line) 에도 높은 충실도 패턴 측정을 보장합니다. 이러한 기능을 결합하면, TENCOR Archer 10 XT 는 마스크 및 웨이퍼 검사를 위한 안정적이고 효율적인 솔루션을 제공합니다. 이 자산은 다양한 반도체 프로세스 노드에 대한 고급 도량형 (Advanced Metrology) 을 제공하며, 업계에서 정확성과 정확성이 뛰어납니다.